设备新品顺利放量，高研发加速平台化布局

投资评级：买入（维持）

主要观点：

• 事件：公司2026年第一季度实现营业收入29亿元，同比增加34%，环比减少33%；归母净利润约9亿元，同比增加197%，环比增加3%；扣非净利约5亿元，同比增加60%，环比减少28%。
• 刻蚀高端产品持续放量，薄膜新品快速兑现增量：一季度营收同比增长34%，主要得益于1）高端刻蚀产品新增付运量显著提升；2）先进逻辑和存储器件关键刻蚀工艺实现量产。此外，LPCVD、ALD等多款薄膜新品设备顺利进入市场，覆盖率不断增加。
• 高强度研发投入+平台化加速完善，核心技术持续兑现：刻蚀设备基本盘稳固，300多台用于先进存储工艺的刻蚀设备实现量产；薄膜设备LPCVD、ALD等十余款产品快速放量；减压EPI先进制程进入量产验证；持续保持国际氮化镓基MOCVD领先地位，积极布局SiC和GaN基功率器件市场。新设备开发周期已缩至2年以内，在研6大类、超20款新品，有望依托刻蚀基本盘、薄膜与EPI新增长引擎及平台化协同，提升在先进逻辑、存储与新兴半导体设备市场的竞争力。

投资建议： 预计公司2026-2028年收入分别为156、185、213亿元，归母净利润分别为34、43、53亿元，最新收盘价对应PE分别为68x、54x、44x，维持“买入”评级。

风险提示： 研发进度不及预期、产业竞争加剧、贸易摩擦加剧。