首次覆盖报告：深耕先进沉积工艺，延展混合键合版图

核心观点

拓荆科技是国内领先的前道薄膜沉积设备厂商，核心产品覆盖PECVD、ALD、Flowable CVD、HDPCVD等多类工艺，已在先进逻辑与存储产线实现规模化交付。公司前瞻布局混合键合及配套量检测设备，切入异构集成与三维集成核心环节，业务由单一沉积设备向“沉积+键合”双引擎平台化演进。

关键数据

• 全球薄膜沉积设备市场规模：预计2025年达到340亿美元，2020-2025年CAGR为13.3%。
• 中国薄膜沉积设备市场规模：预计2025年达到146亿美元，2020-2025年CAGR为26.0%。
• 薄膜沉积设备价值量占比：PECVD约33%，ALD约11%，PVD/LPCVD合计约30%。
• 全球异构集成技术市场规模：预计2024年约144亿美元，2024-2034年CAGR为13.4%。
• 异构集成技术价值量占比：TSV约34.2%，微凸点互连约27.5%，重分布层约21.6%，混合键合约11.6%。

研究结论

公司深耕先进沉积工艺，率先实现PECVD设备量产导入，并前瞻布局混合键合设备，有望受益于国内晶圆厂扩产及异构集成加速渗透。预计公司2025-2027年归母净利润分别为10.98/17.96/25.22亿元，对应同比增长59.6%/63.6%/40.4%。首次覆盖，给予“买入”评级。