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公司刻蚀设备和薄膜沉积设备持续突破,业绩有望维持高增。CCP刻蚀和ICP刻蚀实现逻辑和存储先进工艺产线的覆盖,市占率将大幅增长。薄膜沉积设备LPCVD和ALD技术达到国际先进水平。考虑到半导体设备国产化率持续提升,给予2024年61倍PE,维持目标价194.48元。