ASML光刻机全面提价,将深紫外(DUV)系统售价上调约10%,导致下游制造端成本剧增,挤压台积电等代工厂利润空间,加速国产设备导入。光刻机占晶圆厂设备资本开支超20%,在美国出口管制升级与设备涨价的双重压力下,国内光刻机产线设备国产化已从备用验证转变为战略必选项。国产DUV光刻机在光源、双工件台、物镜系统等核心环节取得突破,预计2026年出货量达5-12台。
菲沃泰卡位DUV光刻机核心耗材市场,将充分享受国产设备出货量增长红利。公司独家攻克DUV GKJ核心膜层技术,打破海外垄断,成为国内浸润式DUV相关镀膜唯一供应商。掌握有机无机杂化配方技术,解决超疏水与耐紫外共存难题,可制备100纳米半导体级平整度的膜层,技术壁垒高,利润率高。该业务2026年2月起量产供货,已获2000多万订单,年化至少5000万+。参考ASML浸没式DUV每年出货近150台,累计1-2000台,国内目前需求不到10台,且膜层需每3-4个月更换一次,粗算成长空间或有数十倍至近百倍。