- 核心观点:看好新凯来在湾芯展上发布关键半导体设备,认为关键设备国产化突破将加速先进制程扩产,并利好半导体设备自主可控赛道。
- 关键数据:先进制程所需的关键设备国产化率仍有较大提升空间,光刻机国产化率为0,刻蚀和薄膜沉积设备国产化率约为20%。
- 研究结论:
- 设备国产化加速:刻蚀、薄膜沉积等关键设备国产化加速,关注相关零部件供应链标的,如新莱应材、富创精密、正帆科技、晶盛机电等。
- 投资建议:
- 前道制程设备:北方华创、中微公司(刻蚀+薄膜沉积)、中科飞测、精测电子(量测)、拓荆科技、迈为股份、微导纳米、晶盛机电(薄膜沉积)。
- 设备零部件:新莱应材、富创精密、正帆科技、晶盛机电。
- 风险提示:下游扩产速度不及预期,设备国产化进程不及预期。