龙图光罩机构调研纪要

一、公司基本情况
深圳市龙图光罩股份有限公司成立于2010年，是一家具备关键技术攻关能力的独立第三方半导体掩模板厂商，主营业务为半导体掩模板的研发、生产和销售。公司于2024年8月完成科创板挂牌上市，持续加大研发投入，工艺能力从130nm提升至65nm，并完成40nm生产设备布局。产品广泛应用于信号链、电源管理IC、功率器件、MEMS传感器、先进封装等领域。公司于2022年设立珠海工厂，围绕高端半导体芯片掩模版领域持续加大研发投入，逐步实现高端制程的国产化配套。

二、投资者互动交流

1. 珠海工厂产能及产品进展
   珠海工厂于2025年上半年顺利投产，目前处于产能爬坡期。核心产品KrF-PSM和ArF-PSM已送往客户测试验证，90nm产品成功实现量产，65nm产品开始送样，40nm生产设备已布局。后续将加速产能释放，重点提升高端产品供给能力。

2. 珠海工厂二期工程及融资规划
   珠海二期工程主体厂房于2025年9月完成封顶，是突破高端制程、扩大产能的战略性布局。公司资产负债率较低，未来将考虑通过债权、股权融资筹集项目资金，具体方案将结合市场环境、监管政策及财务状况审慎决策。

3. 产品认证流程及难度
   认证流程包括签订NDA协议、信息安全体系评估、制版能力考察等环节，周期通常为6-12个月甚至更长，制程等级越高，认证越严格。目前90nm产品已成功量产，65nm产品处于客户验证阶段。

4. 国内石英基板与高端光罩生产
   国内高纯石英基板在材料纯度、缺陷密度等方面与高端光罩要求存在差距，影响精度与良率。公司乐见国内高端基板技术突破，在满足工艺稳定性与良率要求的前提下，将积极稳妥推进国产基板验证与导入。

5. 产品毛利率水平及未来走势
   2025年上半年毛利率下降系130nm及以上制程产品竞争加剧导致。未来随着高端产品验证通过及量产，高端产品占比提升将带动毛利率修复，规模效应也将优化成本结构。

6. 中日关系对原材料进口的影响
   目前生产经营活动正常，相关原材料采购未受进出口管制实质性限制。公司已建立国产供应商验证体系，推动石英基板等关键材料国产替代，以优化供应链结构，降低潜在风险。

7. 行业竞争格局及核心优势
   全球市场由日本凸版、美国Photronics、日本DNP三家占据超80%份额。公司聚焦130nm及以上制程，优势在于响应速度快、服务能力强；差距主要体现在先进制程（28nm及以下）研发与量产能力，以及全球客户资源布局上。

8. PSM掩模与普通二元掩模的区别
   PSM（相移掩模版）通过引入180度相位差提升成像对比度和分辨率，适用于90nm及以下高端芯片制造，设计制造复杂度远高于普通BIM（二元掩模版）。公司已具备成熟的技术积累和量产能力。