- 核心观点:随着生成式人工智能从模型训练迈向推理与应用部署,存储瓶颈正从算力转向存储,非易失性存储(NAND Flash)的读写性能成为制约系统效率的关键。AI-NAND的发展将推动低温刻蚀、混合键合、薄膜沉积、CMP等设备商迎来景气周期,设备在晶圆成本中的占比将持续上升。
- 关键数据:
- SK海力士与英伟达合作开发下一代NAND,目标2027年实现存储性能大幅提升,推出AIN产品矩阵,包括AIN-P(AI推理)、AIN-B(HBF高带宽闪存)、AIN-D(PB级容量)。
- AIN-P目标2026年下半年推出首批样品,实现5000万IOPS,2027年达成1亿IOPS。
- HBF架构采用类似HBM的垂直堆叠封装,容量可达HBM的8至16倍。
- 3D NAND技术发展路线:从200+层向300+层过渡,行业路线图指向1000层堆叠,SK海力士已展示321层样片,预计2025年投入量产。
- 长江存储Xtacking 4.0(294层/Gen 5)拥有294层总栅极数,实际激活层数约为232层。
- 研究结论:
- 电子行业呈现涨跌分化格局,电子化学品、元件等领涨,半导体板块内部分化突出,光学光电子表现偏弱。
- AI-NAND的发展将推动相关设备商迎来景气周期,设备在晶圆成本中的占比将持续上升。
- 相关公司:
- 设备商:中微公司、拓荆科技、盛美上海、精智达等。
- 材料:鼎龙股份、安集科技、华特气体、南大光电等。
- 风险提示:
- AI推理不及预期。
- 生产端不及预期。
- 工艺良率不及预期。