- 核心技术与护城河:公司依托真空、激光、超精密三大技术平台,核心壁垒源于高精度运动控制与精密算法,技术与光伏丝网印刷同源,支撑半导体及显示领域±3微米高精度加工需求。高研发投入(2025年约10亿元,2026年进一步加大)构筑高护城河。
- 前道设备增长:前道设备主攻差异化空白,刻蚀与沉积订单爆发。2026年前道订单预计达20亿元,2027年预期翻倍增长,高增长趋势有望延续至2029年。单台设备价格约5000万元/台。聚焦刻蚀与薄膜沉积,刻蚀国产化率不足10%,二氧化硅刻蚀市占率最高,Moly刻蚀需求爆发,主力销售4款刻蚀产品,后续将推出30款。优先布局高难度产品,避开红海,与中微、华创等巨头暂无强正面竞争。
- 后道与显示设备突破:2026年订单目标15-20亿元,行业扩产未来几年预计数倍增长。后道以激光技术为核心,布局键合、减薄研抛一体等环节。加速切入日本DISCO垄断的后道封装市场,切磨抛设备核心性能已逼近Disco,在30/50mμ超薄片验证中持续破局。泛切割设备国产替代天花板极高,下游客户评价具备稀缺性。
- 财务与结论:公司半导体相关业务毛利率优异,显著优于国内光伏业务。整体认为公司技术独到、韧性很强,在异质结光伏和半导体领域均能成为细分赛道龙头,长期看好。