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光刻胶进展
- 公司已累计布局40余款高端光刻胶,向两家头部fab厂交付数百加仑产品(此前仅一家)。
- 两家客户新增订单近1000加仑,部分光刻胶具备稳定供应能力,为后续放量奠定基础。
- 四款浸没式ArF光刻胶(对应28-7nm制程)获得批量订单,彰显技术能力,系国内需突破的最高难度产品。
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扩建CMP软抛光垫产线
- 软抛光垫业务预期差较大,产线落地后产值可能增长400%以上(不含自用)。
- 全面进军玻璃基板领域,CMP材料成关键配套,推动商业量产落地及ASP提升。
- 新产线可生产直径超2米产品,ASP提升2.5~5倍,下游需求旺盛(12寸大硅片、8/12寸碳化硅衬底)。
- 公司身处多个高景气赛道,量价齐升,成长空间广阔。