天风电子李双亮团队积极推荐上海新阳DRAM光刻胶国产化率提升核心受益标的
边际变化：一、DRAM厂商内部会议定调光刻胶年内国产化率极高，成为重点突破方向从0N 二、产业验证公司浸没A在先进逻辑、DRAM核心厂商取得重大突破，年中之前有望看到每月至少千万级交付，浸没A胶在DRAM及逻辑fab的卡位&份额非常明显，年内销售有望跃升为国内第一。< 【天风电子李双亮团队】积极推荐上海新阳：DRAM光刻胶国产化率提升核心受益标的，合肥新产能释放支撑全年逐季兑现 边际变化：一、DRAM厂商内部会议定调光刻胶年内国产化率极高，成为重点突破方向从0N 。 二、产业验证公司浸没A在先进逻辑、DRAM核心厂商取得重大突破，年中之前有望看到每月至少千万级交付，浸没A胶在DRAM及逻辑fab的卡位&份额非常明显，年内销售有望跃升为国内第一。 三、合肥新产能持续释放、上海本部技改扩产，公司产能有望在26年底超5万吨，同比翻2.3倍。 刻蚀/电镀/清洗/研磨几大核心品种同步放量。
