刻蚀设备优势明显，产品进一步多元化，首予买入

核心观点： 中微公司作为国内半导体设备龙头企业，在刻蚀和薄膜沉积领域具备显著优势。报告重点分析了国产存储芯片技术进步对刻蚀/沉积设备需求的积极影响，并认为中微公司凭借其技术实力将在国产化浪潮中受益。报告还指出，薄膜沉积市场有望成为公司新的增长引擎，并看好MOCVD和量检测设备业务的长期发展潜力。

关键数据：

• 3D NAND 堆叠层数持续增加，推动刻蚀/沉积需求上升： 预计2025年国产NAND市占率可达9%，对刻蚀/沉积设备需求持续增长。
• 中微刻蚀产品国内领先，ICP收入加速上升： 2024年刻蚀设备营收72.8亿元，预计2025年ICP收入增速将高于CCP，2026年超过CCP。
• 薄膜沉积市场广阔，钨和金属CVD/ALD规模扩大： 2024年薄膜沉积业务收入1.56亿元，预计2025/26年收入分别达到4.98亿/9.60亿元。
• MOCVD业务经历调整后，预计2025年恢复增长： 2024年收入3.79亿元，预计2025年恢复同比增长，2026年达到5.7亿元。
• 量检测设备预计2026年或之后开始产生收入： 公司积极布局量检测设备板块，有望抢占市场份额。

研究结论： 首予买入评级，目标价280元人民币。预计2025/26年营业收入分别达到123.0亿/159.3亿元，同比分别增长36%/30%；EPS 3.38/4.94元。公司估值相对溢价，考虑到行业前景和市场需求，目标价对应56.6倍2026年市盈率。