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2023年年报点评:业绩坚实,多种产品突破先进工艺

2024-03-19方竞、张文雨民生证券c***
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2023年年报点评:业绩坚实,多种产品突破先进工艺

事件概述:3月18日,中微公司发布2023年报。公司2023年实现营收62.64亿元,同比增长32.15%;实现归母净利润17.86亿元,同比增长52.67%,实现扣非净利润11.91亿元,同比增长29.58%。 刻蚀收入强劲增长,订单饱满。公司作为国内半导体设备龙头,在2023年以来不断拓宽工艺覆盖率,实现收入的稳健高增。2023年Q4单季度,公司实现营业收入22.22亿元,同比增长30.94%,环比增长46.67%;实现归母净利润6.26亿元,同比增长66.05%,环比增长298.73%。2023年整体毛利率45.83%,23Q4单季度毛利率45.82%,均稳定保持在较高的水平。 从收入结构上看,2023年公司刻蚀设备收入47.03亿元,同比增长49.43%,贡献主要收入增量;MOCVD业务收入4.62亿元,同比下降33.95%。订单方面,2023年公司全年新签订单83.6亿元,同比增长32.3%,其中刻蚀设备新签订单69.5亿元,同比增长60.1%,贡献主要增量。较高的订单增速为2024年业绩持续增长提供保障。 刻蚀主业技术领先,持续突破先进工艺。公司在刻蚀设备赛道拥有行业领先的技术实力和先进制程能力,近期取得了多种先进工艺突破: 1)CCP刻蚀:大马士革刻蚀已经进入国内领先的逻辑晶圆厂客户进行现场验证,进展顺利;超高深宽比刻蚀设备已在产线上验证出具备60:1以上深宽比工艺能力,可用于DRAM和3DNAND制造的关键环节。 2)ICP刻蚀:推出两款新型号ICP设备,提升在先进逻辑芯、先进DRAM和3D NAND中的工艺覆盖率,其中面向DRAM中的高深宽比多晶硅掩膜刻蚀的ICP设备在客户产线验证成功,取得批量重复订单。 薄膜新品拓展顺利,工艺覆盖率持续提升。刻蚀主业之外,公司布局了多款薄膜设备新品,客户推广进展顺利: 1)LPCVD:首台CVD钨设备通过验证,取得重复订单,并开发出用于高端存储器的高深宽比钨填充设备,通过客户验证,已经实现对存储器件中所有钨制程的覆盖。 2)ALD:用于高端存储和逻辑器件ALD钨设备通过验证,用于高端存储和先进逻辑的ALD氮化钛设备验证顺利。 3)EPI:用先进制程锗硅外延生长工艺的EPI设备已经进入工艺验证和客户验证阶段。 投资建议:我们预计公司2024-2026年营收分别为85.20/118.67/157.84亿元,归母净利润分别为20.43/27.29/36.14亿元,对应现价PE分别为47/35/27倍,我们看好公司在半导体设备国产化进程中的领先优势,维持“推荐”评级。 风险提示:产品验证不及预期;下游行业周期性波动;市场竞争加剧。 盈利预测与财务指标项目/年度 公司财务报表数据预测汇总 利润表(百万元)营业总收入 资产负债表(百万元) 现金流量表(百万元)