扣非后归母净利润高增，新品攻关进展良好

事件描述 公司发布2022年年报：2022年全年实现营收47.40亿元，同比增长52.50%；实现归母净利润区间为11.70亿元，同比增长15.66%； 实现扣非后归母净利润9.19亿元，同比增长183.44%。 毛利率持续提升，扣非后归母净利润高增。公司自2012年到2022年十年的平均年营业收入一直保持高于35%的增长率，2022年实现营业收入47.40亿元，同比增长52.50%，再创历史新高，实现扣非后归母净利润9.19亿元，同比增加183.44%。公司营收和业绩增长主要得益于：等离子体刻蚀设备在国内外持续获得更多客户的认可，市场占有率不断提高，MOCVD设备在新一代Mini-LED产业化中，在蓝绿光LED生产线上取得绝对领先的地位。公司2022年综合毛利率为45.74%，较2021年提升2.38个百分点。2022年公司新签订单金额约63.2亿元，较2021年增加约21.9亿元，同比增加约53.0%，订单销售比达到1.33。 新品技术攻关进展良好，产品不断丰富完善。公司针对逻辑器件的一体化大马士革刻蚀工艺和存储器件的极高深宽比刻蚀技术进行技术攻关，取得良好进展。针对28纳米及以下逻辑器件的一体化大马士革刻蚀工艺，公司开发了可调节电极间距的刻蚀机，在刻蚀过程中，反应腔的极板间距可动态调节，以同时满足通孔和沟槽刻蚀的不同工艺要求。针对存储器件中极高深宽比刻蚀，公司自主开发的极高深比刻蚀设备用400KHz取代2MHz作为偏压射频源，以获得更高的离子入射能量和准直性，使得深孔及深槽刻蚀关键尺寸的大小符合规格。 薄膜沉积设备进展显著，首台CVD钨设备进入客户端验证。公司首台CVD钨设备付运到关键存储客户端验证评估，同时在和更多逻辑和存储客户对接CVD钨设备的验证。在金属钨CVD设备的基础上，公司正在进一步开发新型号CVD钨和ALD钨设备来实现更高深宽比结构的材料填充,目前已开始实验室测试同时和关键客户开始对接验证。 公司开发的应用于高端存储和逻辑器件的ALD氮化钛设备也在稳步推进，已经进入实验室测试阶段。公司EPI设备已进入样机的设计，制造和调试阶段。 投资建议 预计公司2023-2025年EPS分别为2.24、2.76、3.40元，对应PE分别为73倍、59倍、48倍，维持“买入”评级。 风险提示 下游资本开支不及预期，国产替代进度不及预期，贸易摩擦加剧。 盈利预测和财务指标 财务报表和主要财务比率 利润表 资产负债表 现金流量表