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半年报点评:扣非业绩大增,刻蚀龙头内生外延打造旗舰平台

2022-08-14国盛证券上***
半年报点评:扣非业绩大增,刻蚀龙头内生外延打造旗舰平台

中微公司发布2022年中报。公司上半年实现营收19.72亿元,yoy+47.3%。归母净利润4.68亿元,yoy+17.9%,扣非归母净利润4.41亿元,yoy+615.3%。上半年综合毛利率45.4%,同比+3.0%,净利率23.7%,同比-5.9%。2022H1非经常性损益同比减少3.1亿元,其中主要是政府补助同比减少2.0亿元,股权投资产生的公允价值变动收益同比减少1.8亿元。 刻蚀业务高速增长,MOCVD今年潜力巨大。2022H1刻蚀设备收入12.99亿元,yoy+51.5%,毛利率达到46.05%,其中CCP刻蚀设备8.86亿元,yoy+14.0%,ICP刻蚀设备4.13亿元,yoy+414.1%。mini LED终端市场新品迭出,渗透率快速增长,行业投资火热。上半年MOCVD设备收入2.41亿元,yoy+9.9%,毛利率达到35.4%,同比提升4.7%,UniMax订到超过180腔,今年MOCVD业务有望实现高增长。 ICP放量增长强劲,产品更新迭代,多领域布局。2021年公司付运298腔CCP、134腔ICP。2022年初至今交付292个反应台,截至2022年6月底,公司设备累计付运台数达2654个反应台。此外公司不断进行产品迭代并开发新品: 【刻蚀】新品开发进展良好,将陆续进入市场。1)逻辑:新一代刻蚀设备、大马士革等刻蚀工艺;2)3D NAND:200层以上极高深宽比的关键刻蚀应用;3)截止2022年6月底,Primo Nanova顺利交付超过220台反应腔,正在开发ICP下一代新品。 【MOCVD】:1)硅基氮化镓功率器件用MOCVD已在客户产线上验证;2)Micro LED用MOCVD以及用于SiC功率器件的外延设备等正在开发中。【CVD】:1)LPCVD已通过关键客户工艺验证,积极推进量产验证;2)ALD研发中,可满足先进存储和逻辑器件金属阻挡层,以及先进逻辑器件中金属栅极的应用。【EPI】:用于 28nm 及以下的逻辑、存储和功率器件锗硅外延生长工艺,已进入样机制造和调试阶段。 大力研发,人均创收达到国际先进水平。公司上半年研发投入3.5亿元,同比增长20.9%,占营收比重17.6%。截至6月底研发人员数量496人,占员工总数41.4%,上半年人均年化营收已达到350万元。公司2022H1新签订单金额同比增长61.8%达30.6亿元,6月底公司合同负债15.9亿元,公司在手订单饱满,南昌、临港等产业化及研发基地今明年陆续投产后,新增产能及研发空间将有力支撑长期增长。 半导体刻蚀设备龙头,内生外延打造旗舰平台型企业。公司成功打造一支具有创造力和核心竞争力的技术团队。MOCVD持续升级迎来Mini LED拐点,CCP产品涵盖国内外一线客户,ICP产品快速迭代并放量,并布局沉积等新产品线,打造半导体设备旗舰企业,通过外延投资拓荆科技、睿励仪器、天岳先进等推进平台型建设。我们预计公司2022~2024年归母净利润10.4/14.0/17.2亿元,维持“买入”评级。 风险提示:下游需求不及预期,新产品开发进展不及预期 财务指标 财务报表和主要财务比率 资产负债表(百万元) 现金流量表(百万元)