中微公司：刻蚀量价双升带动22年业绩高增，内升+外延打造高端装备龙头

事件概述： 公司发布2022年报：实现收入47.40亿元，同比+52.50%，归母净利润11.70亿元，同比+15.66%，扣非后归母净利润9.19亿元，同比+183.44%；2022年非经损益：较21年减少4. 37亿元，其中政府补助减少1.65亿元，投资收益减少3.42亿元；2022年新签订单金额达63.2亿元，YoY+53.0%；2022年毛利率为45.74%，同比增加2.38pcts，主要系刻蚀和MOC VD毛利率双升。22Q4实现收入16.97亿元，同比+63.88%，归母净利润3.77亿元，同比-1 9.75%，扣非后归母净利润2.76亿元，同比+72.79%。 刻蚀量价齐升带动22年业绩高增 2022年刻蚀设备收入为31.47亿元，YoY+57.07%，毛利率达47.00%，YoY+2.68pcts。量价拆分来看，全年刻蚀设备共销售441腔（付运475腔，YoY+59.40%），YoY+51.03%，可测算单价713.6万元/腔，YoY+4.00%，公司刻蚀设备产品升级带来ASP提升。公司针对先进制程的双机台刻蚀机性能不断完善，在国际 5nm 及以下产线实现多次批量销售。鉴于刻蚀设备营收占比高达66.4%，且其毛利率为47.00%，高于公司综合毛利率45.74%，刻蚀设备量价齐升带动公司业绩高增。 CCP和ICP工艺齐升级，先进逻辑&3D NAND空间进一步打开 1）CCP：截至2022年末，CCP累计装机2320腔， 5nm 及以下设备实现多次批量销售，累计装机超200腔。已经入2D和3D存储产线。大马士革（ 28nm 及以下逻辑）和高深宽比（存储）工艺攻关，取得良好进展。中微2021年进行60:1高深比设备研发，有望在未来长存扩产中发挥至关重要作用。2）ICP：截至2022年末，ICP客户超20家（含逻辑、DRAM、3 D NAND），累计装机460腔，工艺覆盖超100个，在先进封装、2.5D封装和MCU领域获得批量重复订单。Nanova单台机年增超100%，市占率迅速扩大，双台机亦进入产线，200+机台在产线生产。同时，公司通过研发晶圆边缘保护功能和低频偏压系统，推出了Twin-StarS E产品，拓展了公司双台机ICP刻蚀设备在功率器件、Micro-LED、Meta Lens等特色器件的刻蚀市场。 内升+外延打造高端装备平台企业 1）内升：公司开发的钨CVD具备优秀的阶梯覆盖率和填充能力，能够满足先进逻辑器件、64/128层3D NAND中多个关键应用，正在开发的ALD钨设备，已和关键客户开始对接验证，用于高端存储和逻辑器件的ALD氮化钛设备也在稳步推进，进入实验室测试阶段。此外，公司正筹划更先进制程的薄膜设备。2）外延：2022年公司对睿励增资1.08亿元，并0.43亿元受让睿励老股东股权，至2022年末累计投资睿励2.51亿元，持有34.75%的股份。此举加大了公司在集成电路工艺检测领域的布局，睿励是国内少数进入国际领先12寸产线的量测企业，是国内唯一进入三星产线的设备企业，睿励12寸量测已进入至 28nm 及以上制程产线， 14nm 验证中，并支持64层3DNAND生产、96层“工艺”验证中。 投资建议 公司在刻蚀领域的驱动力主要来自产品升级和在国产二线Fab的较快放量，基于公司22年业绩，我们调整公司2023/24/25年预测归母净利为14/18/22亿元（23/24年原预测为15/19亿元），对应PE为63/50/41倍，考虑到公司作为国内刻蚀、MOCVD设备领军企业之一，技术实力国内领先，维持“买入”评级。 风险提示 行业景气不及预期，研发进展不及预期，客户处产品验证不及预期。 盈利预测表