核心观点与关键数据
技术突破与量产计划
据The Information消息,中国企业已开始量产自主研发的DUV(深紫外)光刻机,计划于2026年生产约5台,2027年扩大至约20台。ASML美股夜盘跌幅达5.8%。
技术突破的意义
20年来,中国科技追赶与突破光刻机等核心卡脖子技术密切相关。光刻机从小批量到量产,对人工智能追赶美国、缩小差距有重大意义。突破玫瑰光刻机,FAB产能突破,缓解人工智能产能瓶颈,打破几何微缩技术封锁,未来可期。
最利好FAB厂
- 长鑫:26Q1收入75亿美元,全球市场占有率7.7%,全球DRAM市场排名第四,预计市值达5-6万亿。
- 燕东微:前期杀流动式,位置好,PB不到5X,北京先进制程规划超预期,成熟制程涨价,硅光扩产(对标Tower技术)。
- 华虹宏力:先进制程承接算力需求,成熟制程承接算力周边(DRMOS功率、模拟)需求,先进和成熟扩产速度边际大,8寸和12寸持续涨价。