- 核心观点:算力景气周期持续,看好覆铜板(CCL)和羟胺水材料机遇。
- 关键数据与事件:
- 台积电Q2财报:净利润、毛利率创历史纪录,上调全年资本开支,未来三年资本开支将显著高于过去三年。
- WAIC大会:明确AI产业化趋势,AI从单点应用走向实体载体产业化,高景气度延续。
- CCL材料:
- 受益于AI算力需求,CCL从M7/M8向M9升级,量价齐升。
- 上游电子布、铜箔等核心主材供应紧张,价格上涨,建滔积层板多次上调价格。
- 建议关注:南亚新材、生益科技、建滔积层板。
- 电子布:
- 传统电子布供不应求,价格持续上涨,向Low-DK、Low-CTE等高性能产品迭代。
- 高端织布机紧缺,交付周期超12个月,新增产能有限。
- 建议关注:国际复材、宏和科技、中国巨石、中材科技。
- 铜箔:
- HVLP铜箔向四代、五代跃迁,高端产品国产化率低,依赖进口。
- 扩产周期长达12-18个月,高端缺口持续扩大。
- 相关标的:铜冠铜箔、德福科技。
- 树脂:
- CCL迭代升级,树脂体系从环氧树脂向PPO、碳氢、PTFE树脂升级。
- 满足AI服务器、高速交换机等需求。
- 相关标的:东材科技、圣泉集团、中化国际。
- 羟胺水:
- 主要用于芯片制造干法刻蚀后清洗,适配全球46%的亚微米工艺晶圆产能。
- 全球产能约1万吨,长期由巴斯夫垄断,扩产周期约1.5年。
- 国内企业已突破国产化技术难点。
- 建议关注:锦华新材。
- 风险提示:M9进展不及预期、原材料价格波动、国产替代不及预期等。