核心观点
光刻胶是半导体材料中的关键环节,直接影响芯片制造精度和良率,但高端市场长期被日美垄断。目前,我国在光刻胶领域国产化率较低,g/i线光刻胶国产化率20%-25%,KrF光刻胶约3%,ArF光刻胶不足1%,存在较强的自主可控诉求,因此国内光刻胶产业链迎来重要成长机遇。
关键数据
- 国家集成电路产业投资基金三期规模1600亿元,约18%投向光刻胶等领域。
- KrF光刻胶已有部分成熟产品实现国产化替代,ArF/ArFi光刻胶国内多家公司正开发和验证。
投资建议
建议关注已具备高端集成电路光刻胶量产交付能力的平台化企业,如鼎龙股份、彤程新材、上海新阳、恒坤新材、雅克科技、南大光电、艾森股份等。
风险提示
技术与良率/爬坡风险,需求不及预期风险,地缘与贸易摩擦。