国泰海通海外科技ASML业绩会要点短期有产能担忧长期光刻强度提升趋势明确

ASML从盘前+6%至业绩会结束后的-2%，我们认为主要是两个担忧没有得到解决：对中国区指引依旧保守+没有给出对产能爬坡的solid commitment。 但#ASML下游两大行业都处在历史级的高景气区间中，2026~2027的需求十分明确。 #2026年业绩取决于客户扩产进度、中国区收入 【国泰海通海外科技】ASML业绩会要点：短期有产能担忧，长期光刻强度提升趋势明确 ASML从盘前+6%至业绩会结束后的-2%，我们认为主要是两个担忧没有得到解决：对中国区指引依旧保守+没有给出对产能爬坡的solid commitment。 但#ASML下游两大行业都处在历史级的高景气区间中，2026~2027的需求十分明确。 #2026年业绩取决于客户扩产进度、中国区收入不构成重要变量12026年营收指引范围较为宽泛（340亿-390亿欧元），主要取决于：1）客户晶圆厂的准备进度，2）ASML自身的执行力和移机率提升速度。 2中国区收入不构成重要变量，在340亿-390亿欧元的指引区间内，中国区收入占比均Assume为20%（68~78亿欧元），暗含同比下滑（2025年是81亿欧元）。 但考虑到历史上ASML对于中国区的指引一贯保守，不应过分悲观。 3非中国区的DUV需求开始强劲复苏，是支撑起“2026年DUV收入同比持平”这一指引的因素。 #70台EUV不是产能上限、但爬坡需要时间1ASML的EUV产能成为关注重点，尤其是2027年EUV需求量预期突破70台；管理层表示产能上限高于70台，不构成瓶颈。 2但是产能爬坡需要时间，ASML正在逐季度提升移机率。 光刻机扩产主要受限于反射镜、光源、工程师、厂房等，据海外供应链，蔡司正扩产EUV镜头产能，2027年会有较大幅度的上修；ASML也已备好厂房，但工程师的招聘和培训需要时间。 3浸润式ArFi（DUV中的高端型号）也有产能瓶颈，2026年浸润式ArFi收入可能同比下滑。 1Dram方面，市场曾担心从6F2架构转向4F²架构可能导致EUV需求降低；但实际上4F²结构更复杂，需要更先进的光刻掩模，会同时增加浸润式DUV和EUV的光刻强度。 2代工方面，市场层担心N2、A16、A14等节点的EUV强度原地踏步；而ASML确认每一代新节点的EUV层数都会增加，A14增加10-20%，A10进一步提升。 3High-NA客户正积极测试，大规模下单决策会在2026H2~2027年做出。