光刻机：自主可控最核心环节，产业迎来黄金加速期

投资逻辑

光刻机是延续摩尔定律发展的核心装备，技术难度最高且国产化率最低。ASML凭借其在高端光刻机领域的技术优势，占据了全球市场主要份额，尤其在EUV光刻机领域拥有垄断地位。中国光刻机需求量大，但国产化率极低，海外制裁持续加剧，国产替代势在必行。

光学系统

光学系统是光刻机的核心部件，主要包括物镜系统，对精度要求极高。ASML的光学部件主要由蔡司独家供应，且EUV光学部件仅有蔡司有供应能力。目前，超精密光学部件国产化虽已实现突破，但与蔡司相差甚远，任重道远。

光源及双工台

光源及双工台同为光刻机核心部件，对光刻机效率起到重要作用。光源的波长对光刻机的工艺能力起到决定性作用，目前主流的曝光光源波长从g线(436nm)一直缩减到EUV(13.5nm)。双工件台系统是光刻机中承载和移动晶圆的关键子系统，ASML率先应用双硅片台技术，大幅提高了光刻机的产能。

国产替代

自02专项以来，以上海微为代表的光刻机整机公司在部分制程上已取得较为显著的成绩，完成了终端的0到1突破。2024年工信部发布的《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录》中将国产KrF及ArF光刻机明确列入，标志着我国在DUV光刻机已取得明确进展。

投资建议

建议积极关注产业链部分环节优质标的：茂莱光学、汇成真空、波长光电、福晶科技、腾景科技、福光股份等。