光刻机行业深度报告：自主可控攻坚正当时，产业链迎突破黄金期

光刻机是半导体制造的核心设备，市场空间巨大且高度垄断。根据AMAT资料，2023年全球WFE市场中，光刻机占比约26%、近250亿美元。ASML占据绝大多数市场份额，尤其在高端产品如EUV、ArFi领域呈绝对领先，日本Nikon、Canon也有一定市场份额。

光刻机壁垒高筑，核心指标持续迭代演进。分辨率是光刻机最核心的参数指标，遵循瑞利判据，主要涉及波长（λ）、数值孔径（NA）、k1因子。减小光源波长λ、提升数值孔径NA、降低k1因子以及多重曝光技术是光刻机迭代的重要方向。套刻精度（Overlay）和产出（Throughput）也是重要指标，直接影响良率、效率和成本。

光刻机零部件市场空间巨大，供应链稳定集中。ASML 2024年系统销售成本为104亿欧元，上游采购空间巨大。核心子系统包括光源、曝光光学系统、工件台等。光源由Cymer垄断，曝光光学系统核心供应商为Zeiss，工件台为ASML自研。国内光刻机市场巨大，整机及零部件国产化空间广阔。

国内攻坚正当时，积极关注产业链公司。上海微电子、科益虹源、国科精密、华卓精科、茂莱光学、福晶科技、福光股份、菲利华等公司是国内光刻机产业链上的优质厂商，将迎来国产化突破及加速替代的黄金发展期。

投资建议：关注细分环节优质厂商茂莱光学、福晶科技、福光股份、菲利华等。

风险提示：国际局势等宏观因素影响需求复苏、关键技术突破不及预期、中美摩擦加剧带来全球产业链重构。