刻蚀设备领军者，技术新品不断突破

中微公司是一家专注于高端半导体设备研发和制造的行业领先企业，主要产品为刻蚀、薄膜沉积设备，是半导体设备的重要市场（WFE总资本开支合计占43%）。公司先后突破了CCP刻蚀、MOCVD，ICP刻蚀、LPCVD等半导体设备产品，其中CCP刻蚀产品进入2D和3D存储器生产线，有270+反应台进入5nm及以下生产线；ICP刻蚀的双台机产品已进入生产线，深硅刻蚀产品在国内TSV/MEMS成为主流设备；LPCVD为新产品，已在3D存储器验证通过，开始贡献营收。

随着美国对华制裁力度不断加大，中国科技产业链本土化和自主化进程显著加速，中微的订单呈现爆发式增长。2019-2023年，公司收入复合增速为34%。2023年，公司收入达到63亿元，再创历史新高。公司合同负债自去年以来大幅攀升，从23年末的8亿增长至24Q3的30亿元，充分验证了订单持续增长的强劲势头。2024年公司营业收入约91亿元，同比增长约45%。

公司不断进行新品研发，研发费用从2018年的1亿元增长至2023年的8亿元，占收入比例保持在13%-15%之间。持续的高研发助力公司产品能力提升，近年陆续推出了诸如12英寸高深宽比金属钨沉积设备等高端产品，叠加刻蚀产品占比提升，公司毛利率提升至40%+水平。此外，随着公司营销体系完善，市占率不断上升，公司销售费用率从2016年的20%+下降至如今的8%，管理费用率同样下降。随着产品技术不断高端化以及费用优化管理，公司的盈利能力持续增强，归母净利润快速提升。2019-2023年，公司归母净利润从2亿增长至18亿元，复合增长率高达75%。

我们预计 2024-2026 年公司归母净利润分别为16、25、34亿元，对应的 EPS 分别为2.6、4.0、5.5元，对应 2025 年 4 月10 日收盘价 PE 分别为72x、47x、34x。首次覆盖给予“买入”评级。