刻蚀设备收入快速增长，新产品技术突破可期

事件：中微公司发布2023年半年报，2023年上半年公司实现营收25.27亿元，同比增长28.13%；归母净利润10.03亿元，同比增长114.40%；扣非归母净利润5.19亿元，同比增长17.75%。 刻蚀设备业务保持快速发展态势：中微公司的刻蚀设备，在国内外持续获得更多客户的认可，市占率不断提高。公司的CCP刻蚀设备在最先进的5纳米生产线及更先进的生产线上，实现了批量销售；公司的ICP刻蚀设备也不断扩大刻蚀工艺覆盖范围。2023H1公司刻蚀设备业务收入17.22亿元，同比增长32.53%，继续保持较快增长。 瞄准更前沿技术领域，新型刻蚀技术研发顺利：存储芯片制造使用的高深宽比刻蚀机长期被美国LAM，日本TEL垄断。中微公司致力开发用于超高深宽比掩膜刻蚀,超高深宽比介质刻蚀的刻蚀机。两种设备都已开展现场验证，目前进展顺利，在未来有望满足国内存储器企业的扩产需求，并有力保障半导体产线的供应链安全。 深度布局薄膜沉积，发掘成长新动力：中微公司已实现多种LPCVD设备的研发交付以及ALD设备的重大突破。公司完全自主设计开发的双台机CVD钨设备，能够满足先进逻辑器件接触孔填充应用、DRAM器件接触孔应用，以及3DNAND器件中的多个关键应用需求。同期公司较为成熟的MOCVD产品实现营收2.99亿元，同比增长24.11%，薄膜沉积设备有望为公司成长贡献新动力。 投资建议：综合考虑国内半导体产业发展状况，公司核心技术目前的研发进度，我们预计公司2023-25年营收为61.39/78.91/101.77亿元,归母净利润分别为14.37/19.37/25.50亿元，对应PE为63.17/46.86/35.58倍，维持“增持”评级。 风险提示：半导体市场下行周期叠加海外供应风险，国内晶圆厂设备采购放缓；高端产品研发进度不及预期;行业竞争加剧。