国内光刻机发展道阻且长，国产突破行则将至

总结

半导体行业复苏与国产替代加速

• 2024年全球半导体设备市场预计增长3%，2025年增长15%，行业进入周期上行阶段。
• 美日荷对华设备出口管制推动国产替代，大陆晶圆厂逆势扩张带动设备资本开支。
• 大陆晶圆厂产线规划产能缺口超100万片/月，设备需求可观。

光刻机的重要性与市场格局

• 光刻机是半导体制造核心设备，决定制程节点和产能上限。
• 光刻机核心器件包括激光器、光学镜头和工作台，分别影响精度、成像和产能。
• ASML在全球高端光刻机市场一家独大，2023年份额达92%。
• 2024年上半年ASML对中国大陆设备销售收入占49%，同比增长142%。

光刻机国产化进展

• 上海微电子拥有90nm工艺节点的DUV光刻机，并研发28nm浸没式光刻机。
• 工信部《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》中披露氟化氩光刻机，分辨率≤65nm、套刻≤8nm，有望用于28nm芯片产线。

投资建议

• 建议关注光刻机关键系统相关公司：
  • 福晶科技（光源）
  • 富创精密、新莱应材（零部件）
  • 茂莱光学、波长光电（光学镜头）
  • 华卓精科（工作台、未上市）
  • 上海微电子（光刻机整机、未上市）

风险提示

• 国际政治动荡和摩擦加剧
• 国内芯片产能扩产不及预期
• 设备国产化导入不及预期
• 上游供应链发展不及预期