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半导体:先进封装助力芯片性能突破,AI浪潮催化产业链成长

电子设备2024-09-06陈蓉芳、陈瑜熙德邦证券�***
半导体:先进封装助力芯片性能突破,AI浪潮催化产业链成长

证券研究报告|行业深度 电子 2024年09月06日 半导体 先进封装助力芯片性能突破, AI浪潮催化产业链成长 优于大市(维持) 证券分析师 投资要点: 陈蓉芳 资格编号:S0120522060001 邮箱:chenrf@tebon.com.cn陈瑜熙 资格编号:S0120524010003 邮箱:chenyx5@tebon.com.cn 先进封装:超越摩尔定律,助力芯片性能突破 “后摩尔时代”芯片特征尺寸已接近物理尺寸极限,通过先进封装提升芯片整体性能或成为趋势。先进封装具有小型化、轻薄化、高密度、低功耗、功能集成的优势,可广泛应用于AI、高性能计算、数据中心等新兴领域。先进封装包括四个关键要素:凸块(Bump)、晶圆(Wafer)、重布线层(RDL)和硅通孔(TSV)技术:Bump联通芯片与外部的电路,并能缓解应力;Wafer充当集成电路的载体;RDL连通XY平面的上电路;TSV则贯通z轴方向上的电路。 12% 6% 0% -6% -12% -18% 市场表现 半导体沪深300 CoWoS和HBM:相辅相成,AI芯片的绝佳拍档 1)CoWoS:AI时代的先进封装版本答案。算力需求随大模型推出爆炸式提升, GPU等AI芯片深度受益。搭载硅中介层的CoWoS封装性能优异,适用于高性能 -24%2023-092024-012024-05 -31% -37% 资料来源:聚源数据,德邦研究所 相关研究 1.《2024年中期报告点评-安路科技 (688107.SH):终端需求疲软24Q2业绩承压,库存持续改善静待春来》,2024.9.2 2《.寒武纪(688256.SH):产品与生态 计算领域,目前已演进五代,不断增加其中介层面积以及内存容量(HBM)。随 CoWoS封装供不应求,台积电不断上修产能预计,2024年底或达到月产4万片。三星和英特尔已完成2.5D/3D封装布局,传统封测大厂加速进入CoWoS工艺段。 2)HBM:AI芯片的最佳显存方案。HBM堆叠多层DRAM提升内存容量和带宽,打破内存墙限制,满足AI高性能动态存储需求。SK海力士官网、三星和美光竞争愈演愈烈,HBM向更大容量和更高带宽迭代,2024年下半年HBM3e预计将集中 出货。随AI服务器出货暴涨以及GPU芯片的HBM用量提升,HBM需求高增。 TrendForce预测,2024年HBM需求增长率接近200%,2025年可望将再翻倍。 本土先进封装产业链:厚积薄发、加速成长 持续加强,AI应用方兴未艾》, 2024.9.1 3《.拓荆科技(688072.SH):出货大幅增长,产品覆盖度持续提升》,2024.8.30 4《.伟测科技(688372.SH):单季度营 1)刻不容缓:海外高性能芯片管制加强,AI芯片自主可控大势所趋。美国对高性能芯片出口限制不断加强,英伟达先进GPU芯片供应受阻。中国智能算力市场需求旺盛,2018-2023年数据中心机架数量CAGR达30%,发展AI芯片自主可控 为大势所趋,国产AI芯片亟待突破放量。此外,集成工艺可助力芯片跨越1-2个制程工艺节点,在高端光刻机封禁下先进封装有望助力“弯道超车”。 收创新高,持续拓展高端测试》, 2024.8.30 5.《东芯股份(688110.SH):Q2收入环比大幅增长,布局“存、算、联一体化”》,2024.8.30 2)提前布局:国产封测大厂打开成长空间。以长电科技、通富微电、华天科技等为代表的国内封测龙头深耕先进封装工艺,积极布局海外业务,现已具备较强的市场竞争力。此外国产HBM稳步推进,据Trendforce报道,国内存储厂商武汉新芯 (XMC)和长鑫存储(CXMT)正处于HBM制造的早期阶段,目标2026年量产。 3)未来可期:本土相关设备/材料有望受益。先进封装工艺升级,对封装设备的精度和用量提出更高要求,相关材料深度受益。设备方面建议关注:新益昌(固晶机)、华海清科(减薄机)、光力科技(划片机)、拓荆科技(混合键合机);材料方面建议关注:鼎龙股份(PSPI)、飞凯材料(临时键合胶)、艾森股份(电镀液)、华海 诚科(环氧塑封材料)。 风险提示:中美贸易摩擦带来的供应链风险、宏观经济变化及行业景气度不及预期、行业政策变化。 请务必阅读正文之后的信息披露和法律声明 内容目录 1.先进封装:超越摩尔定律,助力芯片性能突破6 1.1.半导体封装所属集成电路后道工艺,封装工艺持续优化提升6 1.2.四大要素助力先进封装提质增效、系统集成9 1.2.1.倒装(FlipChip)与凸块(Bump)11 1.2.2.RDL(重布线层)12 1.2.3.WLP(晶圆级封装)13 1.2.4.2.5D/3D封装与TSV技术14 2.CoWoS和HBM:相辅相成,AI芯片的绝佳搭档16 2.1.CoWoS:AI时代的先进封装版本答案16 2.1.1.AIGPU强需求,先进封装进入算力时代大赛道16 2.1.2.台积电CoWoS性能优异,AI芯片应用匹配度高17 2.1.1.CoWoS供不应求,传统封装大厂加速入局相关工艺端21 2.2.HBM:AI芯片的最佳显存方案,市场需求高涨22 2.2.1.HBM缓解内存墙问题,满足AI高性能动态存储需求22 2.2.2.从HBM1到HBM3E性能倍增,三大厂竞争亦越演愈烈24 2.2.3.HBM单位价格远高于传统存储器,AI服务器需求猛增有望拉动出货26 3.本土先进封装产业链:厚积薄发、加速成长29 3.1.刻不容缓:海外高性能芯片管制加强,AI芯片自主可控大势所趋29 3.2.提前布局:国产封装大厂打开成长空间32 3.3.未来可期:本土先进封装相关设备/材料有望受益34 3.3.1.先进封装工艺流程提出更高要求34 3.3.2.建议关注配套设备国产厂商:38 4.建议关注45 5.风险提示45 图表目录 图1:封装所属集成电路产业后道6 图2:半导体封装等级7 图3:半导体封装的内部和外部结构7 图4:决定封装类型的三要素:内部结构、外部结构和贴装7 图5:芯片I/O增速仅为晶体管增速的一半8 图6:封装引线节距和封装效率的演化8 图7:集成电路进入后摩尔时代,先进封装提升整体性能9 图8:先进封装应用场景丰富10 图9:全球先进封装细分市场规模(亿美元)10 图10:先进封装四要素10 图11:倒装示意图11 图12:倒装键合的信号传输相比引线键合更近更快11 图13:采用RDL技术地芯片与剖面图12 图14:RDL层重排布线,扩展I/O触点12 图15:与传统封装线切割后封装不同,WLP先封装再切割13 图16:晶圆级封装显著缩小封装面积13 图17:扇入型和扇出型WLP对比13 图18:FIWLP、FOWLP和InFO(集成Fan-Out)13 图19:晶圆级封装及面板级封装芯片占用面积比14 图20:面板级封装成本与晶圆级封装相比降低66%14 图21:大语言模型参数规模呈现“指数级”增长16 图22:参数规模已突破万亿16 图23:中国2022年AI芯片市场占比17 图24:24Q1英伟达独立(discrete)GPU份额达88%17 图25:CoWoS示意图17 图26:台积电三种CoWoS封装结构19 图27:台积电3DFabric先进封装产品矩阵涵盖CoWoS、InFO和SoIC等20 图28:台积电、英特尔、三星的2.5D/3D封装布局20 图29:CPU与存储器发展趋势22 图30:训练不同神经网络模型所需的内存量22 图31:HBM堆叠DRAM结构23 图32:HBM1(JESD235标准)23 图33:HBM堆叠结构可提升总带宽23 图34:HBM2较GDDR5单引脚I/O带宽功耗降低42%23 图35:HBM竞争格局(2022年和2024年)24 图36:HBM不同世代占比变化(2022-2024年)24 图37:SK海力士官网、三星和美光的HBM路线图25 图38:各类HBM以及常规DRAM每GB平均价格(美元)27 图39:各类HBM的平均价格(美元)27 图40:GPU中HBM提供存储,HBM中多层DRAM颗粒堆叠27 图41:多个GPU组成服务器27 图42:中国智能算规模及预测,2019-2026(百亿亿次浮点运算/秒,EFLOPS)30 图43:国内封测大厂为海外客户提供封测服务营收占比33 图44:IC制造和封测流程34 图45:先进封装产业链所属签到晶圆制造合后道封测之间35 图46:电镀焊料凸块的工艺流程36 图47:基于RDL工艺晶圆级封装工艺流程37 图48:制造TSV的通用流程原理图38 图49:制造TSV三种工艺流程38 图50:新益昌全自动平面固晶机HAD81039 图51:2024年全球固晶机应用领域份额(%)39 图52:晶圆减薄40 图53:华海清科Versatile-GP300减薄抛光一体机40 图54:光力科技12英寸双轴全自动划片机823040 图55:刀片切割原理图40 图56:混合键合与传统Bump技术对比41 图57:晶圆键合设备应用示意图41 图58:光敏聚酰亚胺图案化工艺41 图59:PSPI全球市场规模(2023-2030年CAGR约17.94%)41 图60:全球临时键合胶市场规模(2023-2029年CAGR为8.2%)42 图61:热滑移解键合工艺流程图42 图62:晶圆凸块(Bumping)镀铜工艺拉动电镀液需求43 图63:电镀液广泛应用于晶圆硅通孔(TSV)镀铜工艺43 表1:从传统封装走向先进封装,历经五个阶段8 表2:传统封装与先进封装的对比9 表3:先进封装四要素对比10 表4:Bump结构对比11 表5:RDL技术优势12 表6:头部封测厂RDL现有技术对比12 表7:2.5D封装和3D封装技术分类15 表8:CoWoS封装的技术优势18 表9:CoWoS世代演进:HBM组合数量增加,中阶层面积增大(CoWoSGen6:单个12英寸晶圆实际只能得到9个硅中阶层)18 表10:联电、力成、日月光等厂商已加速入局CoW或WoS工艺段。21 表11:HBM与GDDR引脚及带宽对比24 表12:HBM模块开发路线25 表13:主流AI芯片相关HBM性能和用量26 表14:HBM市场需求测算(以AI服务器为例)28 表15:AI芯片性能和美国禁令情况分析29 表16:部分国产AI芯片30 表17:2023年全球委外封测前十大企业营收额排名32 表18:中国大陆本土封测厂先进封装布局33 表19:先进封装芯片级封装工艺所需主要设备35 表20:塑封及后续工艺所需的主要设备35 表21:先进封装晶圆级工艺所需主要设备36 表22:不同阶段对环氧塑封材料要求43 1.先进封装:超越摩尔定律,助力芯片性能突破 1.1.半导体封装所属集成电路后道工艺,封装工艺持续优化提升 封装所属集成电路产业链后道,起着安防、固定、密封、保护芯片,以及确保电路性能和热保护等作用。封装测试环节所属集成电路产业链后道,主要是指 安装集成电路的外壳的过程,包括将制备合格的芯片、元件等装配到载体上,采用适当的连接技术形成电气连接并构成有效组件。常规封装主要是用引线框架承 载芯片的封装形式,具有四大功能:①芯片机械支撑和环境保护、②接通电源、 ③引出信号线和接地线、④芯片热通路。先进封装引脚以面阵列引出,承载芯片大都采用高性能多层基板,在原有四大功能的基础上,更肩负了提高芯片规模、扩展芯片功能和提高可靠性的作用。 图1:封装所属集成电路产业后道 资料来源:SK海力士官网,德邦研究所 电子封装技术覆盖四个等级,集成电路的封装主要是指其中的一级封装和二级封装,即芯片级封装和外联PCB板。 零级封装(切割晶圆):从晶圆片上切割得到芯片。 一级封装(芯片级封装):将芯片固定在封装基板或引线框架上,将芯片的焊盘与封装基板或引线框架内的引脚互连,并对芯片和互连进行保护性包封。 二级封装(外联PCB板):将一级封装和其他电子元件安装在PCB(硬质