研发费用大幅增长，看好刻蚀设备持续突破

业绩简评

公司2024年上半年实现营收34.48亿元，同比增长36.46%；归母净利润5.17亿元，同比减少48.48%。其中，Q2实现营收18.43亿元，同比增长41.37%；归母净利润2.68亿元，同比减少63.23%。归母净利润下滑主要由于2023年出售拓荆科技股票带来的股权处置收益消失，以及研发投入大幅增加（24年上半年研发投入9.70亿，同比增长110.84%，研发费用率16.47%）。

经营分析

1. 合同负债快速增长：24年上半年生产专用设备833腔，同比增长420%，发出商品余额约27.66亿，增长18.98亿；合同负债余额约25.35亿，增长约17.64亿，订单饱满，看好全年业绩释放。
2. 刻蚀设备优势显著：多款刻蚀设备进入量产验证阶段，Primo UD-RIE已验证出刻蚀≥60:1深宽比结构的量产能力，并储备更高深宽比结构（≥90:1）刻蚀的前卫技术。晶圆边缘Bevel刻蚀设备即将进入客户验证。
3. 薄膜沉积设备覆盖度增加：钨系列薄膜沉积产品覆盖存储器件所有钨应用，完成多家客户验证并取得订单。规划多款CVD和ALD设备，增加薄膜设备覆盖率。EPI设备已进入客户验证阶段，满足锗硅外延生长工艺需求。

盈利预测、估值与评级

预计公司24-26年营收分别为83/108/139亿元，同比增长33%/30%/28%；归母净利润分别为20/26/32亿元，同比增长10%/32%/23%，对应P/E为52/40/32倍，维持“买入”评级。

风险提示

半导体周期波动，下游晶圆厂扩产不及预期，新产品进展速度不及预期风险。