2023年报点评：业绩稳健增长，刻蚀&薄膜沉积等多产品加速推进

新品研发成效显著，公司业绩稳健增长。2023年公司营业收入62.6亿元，同比+32%，其中2023年刻蚀设备销售47.0亿元，同比增长49%； MOCVD设备销售4.6亿元，同比下降34%；归母净利润17.9亿元，同比+53%；扣非归母净利润11.9亿元，同比+30%。 产品结构优化&规模效应显著，盈利能力提升。2023年公司综合毛利率为45.8%，同比+0.1pct，分产品来看，专用设备毛利率为45.2%，同比-0.01pct，备品备件毛利率为48.3%，同比+1.4pct，其他产品毛利率为53.7%，同比-12.8pct；销售净利率为28.5%，同比+3.8pct；扣非归母净利率为19%，同比-0.3pct，期间费用率25%，同比+1.8pct，其中销售费用率7.9%，同比-0.8pct，管理费用率（含研发费用）18.53%，同比+0.8pct，财务费用率-1.4%，同比+1.8pct。 存货高增，新签订单充沛。截至2023年底公司存货为42.6亿元，同比+25%，合同负债为7.7亿元，同比-65%，主要系四季度因收入确认合同负债余额随之减少，同时因销售合同等因素，出货量不多，导致预收款增量不多，公司机台发货量在2024年一季度有较大增长。公司2023年新增订单金额83.6亿元，同比+32.3%。其中刻蚀设备新增订单69.5亿元，同比增长60.1%；由于中微的MOCVD设备已经在蓝绿光LED生产线上占据高市占率，受终端市场波动影响，2023年MOCVD设备订单同比下降72.2%。 刻蚀产品持续领先，镀膜产品拓展顺利。（1）CCP设备：在逻辑领域，已对 28nm 以上的绝大部分CCP刻蚀应用和 28nm 及以下的大部分CCP刻蚀应用形成较为全面的覆盖。在存储领域，超高深宽比刻蚀机已在客户端验证出≥60：1深宽比结构的能力。（2）ICP设备：Primo nanova®ICP刻蚀产品已在超过20家客户生产线上进行100多个ICP刻蚀工艺的验证，工艺覆盖3D NAND、DRAM和逻辑芯片。（3）MOCVD设备：积极布局第三代半导体设备，开发GaN功率器件量产应用的MOCVD设备，已在国内外领先客户产线进行验证并获得重复订单。（4）薄膜沉积设备：公司首台CVD钨设备付运到关键存储客户端验证评估，已通过客户现场验证，满足金属互联钨制程各项性能指标，并获得客户重复量产订单，公司开发的应用于高端存储和逻辑器件的ALD氮化钛设备也在稳步推进，EPI设备已进入工艺验证和客户验证阶段，以满足客户先进制程中锗硅外延生长工艺的电性和可靠性需求。 盈利预测与投资评级：考虑到公司订单增长趋势，我们预计公司2024-2026年归母净利润分别为20.83（原值19.94）/25.81（原值25.54）和36.37亿元，当前对应动态PE分别为46/37/26倍。基于公司的高成长性，维持“买入”评级。 风险提示：晶圆厂扩产节奏不及预期，新品研发&产业化不及预期等。