事件点评：ArF光刻胶取得核心突破，G5等级EBR加速认证

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公司光刻胶项目进展与上海化学工业区项目概述

光刻胶项目进展

• ArF光刻胶：公司已完成部分型号的开发，具备量产能力，并正在进行光刻工艺测试及产品验证。首批产品的各项出货指标与国际大厂相当。
• K胶和I胶：I线光刻胶已广泛应用于国内集成电路生产线，支持从14nm及以上工艺。KrF光刻胶产品种类超过20种，稳定供应国内主要芯片制造商。

上海化学工业区项目

• 竣工与试生产：上海化学工业区工厂设计产能包括1千吨半导体光刻胶、1万吨显示用光刻胶和2万吨高纯EBR试剂。项目已竣工并逐步进入试生产阶段。
• 产线优化与升级：通过产线优化和品控升级，实现了对高纯PFA设备、高精度物料流量控制系统的应用，以及自研的高效过滤系统，以实现对金属杂质和颗粒的有效管控。

EBR项目

• 高纯EBR装置：公司搭建高纯EBR装置，成为国内首个拥有高纯EBR精馏塔设备和高纯精馏技术的本土溶剂供应商。
• EBR溶剂规格：生产的EBR溶剂已达到G4等级，适用于40纳米以下工艺制程，年产2万吨的规模能满足国内先进制程需求。
• G5等级验证：预计在第四季度完成G5等级EBR的验证工作，产品已在几家先进芯片制造商中推动验证。

投资建议与风险提示

投资建议：考虑到公司在特种橡胶助剂领域的领先地位，预计未来三年（23/24/25年）公司净利润分别为4.55亿、5.53亿、6.67亿，对应当前股价的PE分别为49、40、33倍，维持“推荐”评级。

风险提示：

• 客户认证风险：可能面临的客户认证延迟或失败风险。
• 下游需求不及预期：市场对光刻胶等产品需求可能低于预期。
• 市场竞争加剧：行业竞争可能加剧，影响公司的市场份额和盈利能力。