www.leadleo.com 2023年靶材行业研究 2023SputteringTargetIndustryResearch2023スパッタターゲット業界の研究 概览标签:半导体材料,晶圆制造,溅射靶材 报告主要作者:李姝 2023/04 报告提供的任何内容(包括但不限于数据、文字、图表、图像等)均 系头豹研究院独有的高度机密性文件(在报告中另行标明�处者除外 )。未经头豹研究院事先书面许可,任何人不得以任何方式擅自复制 1 www.leadleo.com400-072-5588©2023LeadLeo 、再造、传播、�版、引用、改编、汇编本报告内容,若有违反上述约定的行为发生,头豹研究院保留采取法律措施,追究相关人员责任的权利。头豹研究院开展的所有商业活动均使用“头豹研究院”或“头豹”的商号、商标,头豹研究院无任何前述名称之外的其他分支机构,也未授权或聘用其他任何第三方代表头豹研究院开展商业活动。 研究目的 本报告为半导体材料系列报告,将梳理靶材的应用及竞 争情况,对整个行业发展状况做�分析。研究区域范围:全球地区 研究周期:2022年6月-2023年6月 研究对象:中国靶材行业 此研究将会回答的关键问题: ①靶材的主要产品及分类依据? ②靶材应用于哪些领域? ③靶材行业的市场现状? ④靶材行业的竞争格局如何? ⑤靶材行业有何发展趋势? ⑥靶材厂商各自有何竞争优势? 摘要 01 目前全球靶材市场呈现日、美等发达国家寡头垄断格局 从全球范围靶材厂商来看,由于日本、美国等发达国家由于在靶材领域起步较早,产业链较为完整,具备规模化生产能力,其营业收入规模较大。日本日矿金属是全球最 大的靶材供应商,市场份额高达30%;美国霍尼韦尔通过投资并购上游原材料生产厂后,市场份额升至20%;东曹和普莱克斯市场份额分别为20%和10%。全球靶材行业集中度 较高,CR5约为80%。 02中国是全球重要的中低端靶材生产基地,高端产品产能逐步释放 目前中国大部分靶材厂商主要生产的是低附加值的中低档靶材产品,与国际知名企业 相比,中国厂商在高纯度靶材市场影响力相对有限。受益于国家战略的大力支持,中国本土专业从事靶材研发和生产的企业不断增多,涌现�江丰电子、隆华科技、有研新材等积极参与高端靶材国际化市场竞争的厂商。目前国产高纯钼靶材、ITO靶材已实现技术突破,依靠中国原材料高纯钼粉、高纯铟等既有资源优势,中国已经具备相对有竞争力的产业优势,未来高端靶材供应的本土化进程有望进一步加快。 03 靶材在半导体领域的应用对于其性能要求最高,国产替代有望加速 靶材在平面显示领域应用占比最高,约为30%,半导体次之,约为20%。作为集成电路的关键原材料,靶材在半导体芯片领域的应用对其技术、纯度、尺寸、集成度等性能 要求最高,通常半导体靶材纯度要求通常达99.9995%(5N5)甚至99.9999%(6N)以上。随着半导体国际厂商持续在大陆设厂,晶圆厂产能逐渐向中国转移,中国半导体用靶 材需求逐渐扩张。国产半导体用超高纯度靶材市场需求有望进一步增长。 名词解释 ---------------------------------------- 06 行业综述 ---------------------------------------- 07 •定义与分类 ---------------------------------------- 08 •相关政策 ---------------------------------------- 09 产业链 ---------------------------------------- 10 •产业链图谱 ---------------------------------------- 11 •产业链上游-原材料及设备供应商 ---------------------------------------- 12 •产业链中游-靶材制造厂商 ---------------------------------------- 13 •产业链下游-应用领域 ---------------------------------------- 15 企业推荐 ---------------------------------------- 17 •江丰电子 ---------------------------------------- 18 •隆华科技 ---------------------------------------- 20 方法论 ---------------------------------------- 22 法律声明 ---------------------------------------- 23 目录 CONTENTS Terms ---------------------------------------- 06 CONTENTS OverviewofIndustry ---------------------------------------- 07 •DefinitionandClassification ---------------------------------------- 08 •RelatedPolicyAnalysis ---------------------------------------- 09 ChainAnalysis ---------------------------------------- 10 •SupplyChainOverview ---------------------------------------- 11 •Upstream:RawMaterialandEquipmentSupplier ---------------------------------------- 12 •Mid-stream:ManufacturersofSputteringTarget ---------------------------------------- 13 •Downstream:Applications ---------------------------------------- 15 RecommendedCompanies ---------------------------------------- 17 •Company1:KonfoongMaterialsInternational ---------------------------------------- 18 •Company2:LonghuaTechnologyGroup ---------------------------------------- 20 Methodology ---------------------------------------- 22 LegalStatement ---------------------------------------- 23 目录 图表1:磁控溅射的工艺原理 ---------------------------------------- 08 图表2:靶材行业相关政策,2022年 ---------------------------------------- 09 图表3:靶材行业产业链图谱,2023年 ---------------------------------------- 11 图表4:中国十种常用有色金属产量,2018-2022年 ---------------------------------------- 12 图表5:上期所有色金属价格指数(IMCI),2023年 ---------------------------------------- 12 图表6:靶材生产流程图 ---------------------------------------- 12 图表7:中游靶材生产厂商分析,2021年 ---------------------------------------- 13 图表8:全球靶材市场构成,2021年 ---------------------------------------- 14 图表9:中国靶材行业竞争格局,2021年 ---------------------------------------- 14 图表10靶材行业主要应用领域 ---------------------------------------- 15 图表11靶材在下游各应用领域的占比,2021年 ---------------------------------------- 16 图表12靶材在半导体制造中的应用占比,2021年 ---------------------------------------- 16 图表13江丰电子营业收入情况,2018-2022年 ---------------------------------------- 18 图表14江丰电子销售毛利率,2018-2022年 ---------------------------------------- 18 图表15隆华科技营业收入情况,2018-2021年 ---------------------------------------- 20 图表16隆华科技销售毛利率,2018-2021 ---------------------------------------- 20 图表17隆华科技电子新材料产业各子公司主要产品,2021年 ---------------------------------------- 21 图表目录ListofFiguresandTables 名词解释 溅射:利用离子源产生的离子,在真空中经过加速聚集,而形成高速度能的离子束流,轰击固体表面,离子和固体表面原子发生动能交换,使固体表面的原子离开固体 并沉积在基底表面的过程。 溅射靶材:在溅射过程中,高速度能的离子束流轰击的目标材料,是沉积薄膜的原材料。 ITO靶材:IndiumTinOxide,氧化铟锡靶材,是溅射靶材中陶瓷靶材(化合物靶材)的一种 TFT-LCD:ThinFilmTransistor-LCD,薄膜晶体管型液晶显示器 晶粒:内部晶胞方向与位置基本一致而外形不规则的小晶体。 晶相:通过晶体中原子中心不同方向的原子列,是"晶相取向"的简称 ©2023LeadLeo6 第一部分:行业综述 主要观点: 靶材又称“溅射靶材”,是磁控溅射沉积薄膜的材料源,广泛应用于半导体芯片、平面显示、太阳能电池、信息存储等领域;靶材按化学 成分可分为金属、合金、陶瓷靶材 国家把靶材列为重点新材料与战略性新兴产业,对靶材实施进口关税减免,鼓励推进靶材产业供应链稳定,推进中国靶材行业技术融合创新化、应用高端化、多元化、规范化 7 靶材行业综述——定义与分类 靶材又称“溅射靶材”,是磁控溅射沉积薄膜的材料源,广泛应用于半导体芯片、平面显示、太阳能电池、信息存储等领域;靶材按化学成分可分为金属、合金、陶瓷靶材 靶材的定义与分类 靶材是溅射沉积薄膜的材料源,又称“溅射靶材”。溅射工艺利用离子源产生的离子在高真空中经过加速聚集,形成高速度的离子束流进而轰击靶材的表面,被轰击的固 体成为溅射靶材。溅射靶材的种类较多,如金属靶材、合金靶材、陶瓷靶材,其应用领域广泛,是半导体芯片、平面显示、光伏电池等领域必需的支撑性材料。 氩气 基底 薄膜氢原子电子 氩正离子 靶原子 等离子体 阴极(-) 抽真空 磁铁 溅射靶材 ITO靶材 二氧化硅靶材 氮化硅靶材 氧化锌靶材 氧化钛靶材 镍铬合金靶材 镍钴合金