瑞联新材：两市稀缺的EUV光刻胶标的产业信息显示国产EUV光刻

#瑞联新材：两市稀缺的EUV光刻胶标的 产业信息显示国产EUV光刻机弯道超车，市场或聚焦EUV光刻机以及光刻胶环节。关注A股稀缺的EUV光刻胶标的–瑞联新材。 EUV光刻胶亟待突破0。 按曝光光源波长划分，光刻胶可分为g线光刻胶（436nm）、i线光刻胶（365nm）、KrF光刻胶（248nm）、ArF光刻胶（193nm）和 EUV光刻 #瑞联新材：两市稀缺的EUV光刻胶标的 产业信息显示国产EUV光刻机弯道超车，市场或聚焦EUV光刻机以及光刻胶环节。关注A股稀缺的EUV光刻胶标的–瑞联新材。 EUV光刻胶亟待突破0。 按曝光光源波长划分，光刻胶可分为g线光刻胶（436nm）、i线光刻胶（365nm）、KrF光刻胶（248nm）、ArF光刻胶（193nm）和 EUV光刻胶（13.5nm）。 其中，g/i线光刻胶的国产化率约为20%，KrF光刻胶整体国产化率不足2%，ArF光刻胶整体国产化率不足1%，#高端EUV光刻胶处于空白，在国外断供风险持续增大的背景下，急需提升国产化水平。 实锤EUV光刻胶。 根据公开调研，瑞联新材半导体光刻胶多数是ArF级别，也有KrF级别，目前有一款用于EUV级别的产品中试批次已经通过客户验证，并且有百公斤级的销售，客户将进一步生产为光刻胶进行性能验证。 积淀深厚，募资投向光刻胶项目。 8月24日，瑞联新材公告表示拟投资建设大荔海泰光刻胶及高端新材料产业化项目。 在电子化学品板块，瑞联新材从2015年开始研发半导体光刻胶单体和膜材料中间体等光刻胶材料，以高端光刻胶材料为重点方向，且半导体光刻胶单体以ArF光刻胶单体、#KrF光刻胶单体和EUV光刻胶单体为主。 综上，光刻机/光刻胶题材进入下半场，大概率将聚焦弯道超车，打破封锁的EUV环节，瑞联新材作为此环节稀缺的国产替代标的，值得关注。