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业绩超预期,具备强阿尔法属性,打造直写光刻平台型企业

2023-08-26张一鸣、邓宇亮国盛证券表***
业绩超预期,具备强阿尔法属性,打造直写光刻平台型企业

公司发布2023年半年度报告。公司2023年上半年实现收入3.19亿元 (+25%),归母净利润0.73亿元(+28%),扣非归母净利润0.68亿元 (+51%)。公司业绩超预期,在行业显著承压的背景下,公司上半年仍然 录得收入增速接近25%、扣非归母净利润50%以上的增长,同时单Q2季 度毛利率和净利率均环比提升3pct左右,彰显公司在直写光刻领域的强阿 尔法属性。 PCB领域:行业显著承压,公司增速远超行业增速,阿尔法属性强劲。今 年上半年,消费萎靡,库存水平持续高位,PCB行业以消费电子为代表的需 求显著承压,处于行业下行的筑底阶段,根据Prismark预估2023年PCB 产业营收将面临9.3%的下滑,PCB新增产能投资大幅减少,因此PCB设备 企业面临的压力巨大。但是,公司凭借强劲的研发技术实力,显著受益于国 产替代和传统替代,实现远远领先行业的业绩增长。今年5月,公司NEX60T 作为首台双台面防焊DI设备正式进军日本市场,与日本VTEC达成战略合 作,同时,公司深化与生益电子、胜宏科技、定颖电子、沪电股份等客户的 合作,国际头部厂商鹏鼎控股订单情况良好,软板、类载板、阻焊等细分市 场表现优异。 泛半导体领域:布局范围广、行业空间大,公司增长动力充足。在先进封装 与Mini/Micro LED渗透率快速提升趋势下,叠加国产替代背景下,公司作为 国内泛半导体直写光刻设备龙头有望显著受益。 1)IC载板:空间广阔,公司为国产替代领军者。今年上半年,公司推出新 品MAS10,用于IC载板线路曝光,目前,公司已储备3-4um解析能力的 IC Substrate,技术指标比肩国际龙头。 2)先进封装:后摩尔时代下的明星,空间大、增速高,公司有望深度受益。 在晶圆级封装领域,公司的WLP系列产品可用于8inch/12inch集成电路先 进封装领域,包括Flip Chip、Fan-InWLP、Fan-OutWLP和2.5D/3D等先进 封装形式。 3)新型显示:Mini/Micro LED前景广阔,带来直写光刻设备市场新增量。 在新型显示的Mini/Micro LED封装环节中,由于其阻焊层曝光精度较高, 同时需匹配高反射率的阻焊油墨使用,直写光刻技术正在逐步取代传统底片 曝光技术,目前公司NEX系列产品已经应用于Mini LED封装环节中。 4)掩膜版制版:精度要求高,公司 90nm - 65nm 制版光刻设备在研中。目 前半导体掩膜版主流制程在100- 400nm 工艺区间,公司将尽快推出量产 90nm 节点制版的光刻设备以满足半导体掩膜版技术的更新迭代。 5)引线框架:高集成发展推动直写光刻传统替代。公司实行大客户战略, 利用在WLP等半导体封装领域内的产品开发及客户资源积累,推动蚀刻工 艺对传统冲压工艺的替代。 光伏电镀铜领域:以铜代银势在必行,电镀铜是平台型技术,公司将率先且 深度受益。光伏用银需求量大且增速高、而银浆供给短缺,因此去银化是必 然选择,电镀铜降本增效优势明显,以铜代银势在必行。电镀铜是平台型技 术,不止是HJT,TOPCon、BC均可应用,空间巨大。电镀铜制备过程中, 图形化是最核心、壁垒最高的环节,我们预计终局状态下,未来光伏用图形 化设备需求达到500GW,假设在单GW图形化设备为2000万的情形下, 得出市场空间为100亿元。公司是光伏图形化设备龙头,率先布局、技术路 线布局多元、客户覆盖范围广,有望率先且深度受益。公司SDI-15H直写 光刻设备具备高精度解析(15μm+),高精度图案对位(<10μm),高 速加工能力(单轨道≥6000半片/小时)等优异性能;此外,公司SPE-10H 设备为非直写光刻技术,且已于2023年6月顺利交付海外客户端,具备产 能≥8000wph(单轨),光刻解析精度优于10μm。 投资建议:我们预计2023-2025年公司归母净利润为2.2、3.2、4.5亿元, 同比增长58.9%、49.1%、39.9%,当前股价对应公司PE为38.4、25.8、 18.4X。公司打造国内直写光刻平台型企业逻辑顺畅,PCB领域市场份额有 望快速提升,泛半导体领域有望翻倍增长,光伏铜电镀领域从0到1有望实 现爆发式突破,维持“买入”评级。 风险提示:PCB&泛半导体下游市场波动、市场规模测算误差、电镀铜工艺 导入不及预期。 财务指标 财务报表和主要财务比率 资产负债表(百万元) 现金流量表(百万元)