【CT电新】苏大维格：高附加值产品占比持续提升，盈利能力大幅改善

【CT电新】苏大维格：高附加值产品占比持续提升，盈利能力大幅改善 公司23H1营收7.88亿元，同比-10.47%；归母净利润0.12亿元，同比+784.54%；扣非净利润0.03亿元，同比+122.70%；毛利率 20.25%，同比+4.57pcts。 单23Q2营收3.95亿元，同比-18.23%；归母净利润0.11亿元，环比增长10倍；扣非净利润0.07亿元，环比扭亏为盈；毛利率22.14%，同比 + 【CT电新】苏大维格：高附加值产品占比持续提升，盈利能力大幅改善 公司23H1营收7.88亿元，同比-10.47%；归母净利润0.12亿元，同比+784.54%；扣非净利润0.03亿元，同比+122.70%；毛利率 20.25%，同比+4.57pcts。 单23Q2营收3.95亿元，同比-18.23%；归母净利润0.11亿元，环比增长10倍；扣非净利润0.07亿元，环比扭亏为盈；毛利率22.14%，同比 +4.57pcts，环比+3.79pcts。 由于社会消费品和消费电子行业需求承压，公司营收同比有所下降，但是产品结构的优化带来毛利率同环比都有较大幅度提升，随着高附加值产品逐步大规模量产，公司盈利能力有望持续提升。 公司自主研发了光刻机设备，拓展了光伏铜电镀的图形化设备、AR-HUD等新业务，为公司培育新的利润增长点。 公司的光刻设备已经向国内某芯片龙头企业销售，并向国内厂商提供用于IC芯片投影式光刻机的核心部件定位光栅尺产品。曝光设备在光伏铜电镀环节占设备投资的1/3以上，决定了栅线宽度，是铜电镀的核心设备。 公司第一代铜电镀设备样机已给部分客户验证，使用投影式技术，均匀性高，稳定可靠。 投影式技术来源于半导体行业技术，公司将半导体中使用的成本高昂的紫外光源、nm级别的掩模版、大镜头改为了使用LED可见光、微米级别掩模版、小镜头阵列，将成本大幅度下降。 公司已经可以做到8微米精度，客户要求15-20微米就足够。 效率已经做到8000片/小时，第二代样机在镜头拼接上提高了稳定性，第三代样机可以提高生产节拍，降本增效。 公司透明导电膜、超薄高亮导光、前光材料等高附加值业务收入比重快速增加，另外新一代证卡防伪材料、光刻机、光伏铜电镀图形化设备、AR-HUD投影屏等领域的测试与验证工作开展顺利。