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电子行业周报:AI催化HBM需求,关注产业链受益环节

电子设备2023-07-16方竞、童秋涛、李萌、张文雨民生证券石***
电子行业周报:AI催化HBM需求,关注产业链受益环节

AI服务器高带宽,催生HBM需求。 处理器性能不断提升,“内存墙”成为计算机系统的瓶颈,而HBM通过3D堆栈可提供更高的内存带宽和更低的能耗,适用于高存储带宽需求的应用场合,如HPC、网络交换设备等。最新的HBM3E产品可提供超过1TB/s的数据带宽,具有8Gb/s的I/O速率,缓解了因内存部件延迟而阻碍算力增长的问题。受益AI需求催化,HBM用量需求大幅提升,TrendForce以bit为计算基础,推算HBM目前约占整个DRAM市场的1.5%,预计2023年全球HBM需求量将年增58%,达到2.9亿GB,2024年将再增长30%。不过由于HBM高门槛,目前仅海力士、三星和美光稳定供应,据TrendForce数据,2022年三者份额分别为50%、40%、10%。其中海力士占据先发优势,更于2023年5月率先推出了HBM3E,宣布将于2023年下半年发布样品,2024年上半年投入生产。 HBM拉动上游设备及材料用量需求提升。 设备端:TSV和晶圆级封装需求增长。由于独特的3D堆叠结构,HBM芯片为上游设备带来了新的增量:前道环节,HBM需要通过TSV来进行垂直方向连接,增加了TSV刻蚀设备需求;中段环节,HBM带来了更多的晶圆级封装设备需求; 后道环节,HBM的多芯片堆叠带来die bond设备和测试设备需求增长。 材料端:具体拆解HBM来看,每个HBM封装内部都堆叠了多层DRAM Die,各层DRAM Die之间以硅通孔(TSV)和微凸块(microbump)连接,最后连接到下层的HBM控制器的逻辑die。因此HBM的独特性主要体现在堆叠与互联上。对于制造材料:HBM核心之一在于堆叠,HBM3更是实现了12层核心Die的堆叠,多层堆叠对于制造材料尤其是前驱体的用量成倍提升,制造材料核心厂商包括:雅克科技、神工股份等;对于封装材料:HBM将带动TSV和晶圆级封装需求增长,而且对封装高度、散热性能提出更高要求,封装材料核心厂商包括:联瑞新材、华海诚科、飞凯材料等。 投资建议:AI催化HBM高景气,需求快速增长,目前海力士占据绝对份额,相关代理商环节有望受益,同时HBM需求旺盛,也将拉动上游设备及材料用量需求提升。建议关注:1)材料:雅克科技、联瑞新材、华海诚科、神工股份等;2)设备:北方华创、中微公司等;3)代理商:香农芯创、雅创电子、商络电子等。 风险提示:下游AI发展不及预期;产业链相关企业发展进度不及预期 重点公司盈利预测、估值与评级 1AI催化HBM需求,关注产业链受益环节 1.1AI服务器高带宽,催生HBM需求 处理器性能不断提升,“内存墙”成为计算机系统的瓶颈。计算机系统的运行受到处理器和内存的配合影响,但处理器性能因摩尔定律不断提升,而内存DRAM的传输带宽没有跟随工艺的演进而快速增长,导致访存时延迟高、效率低,严重制约处理器性能发挥,即出现“内存墙”。在AI和视觉等领域,需要大量的内存带宽来支持复杂的计算操作,若内存性能落后,会导致实际算力下降50%甚至90%。 HBM是目前用于打破“内存墙”的重要技术之一。高带宽存储器(HBM)是一种基于3D堆栈工艺的高性能DRAM,可以提供更高的内存带宽和更低的能耗,适用于高存储器带宽需求的应用场合,如HPC、网络交换设备等。最新的HBM3E产品可提供超过1TB/s的数据带宽,具有8Gb/s的I/O速率,缓解了因内存部件延迟而阻碍算力增长的问题。 HBM使用TSV(硅通孔)技术将多个DRAM芯片堆叠起来,通过垂直互连减小互联长度,降低信号延迟和寄生电容/电感,在增加带宽的同时,实现芯片间的高速通信和低功耗,可应用于高性能计算、超级计算机、大型数据中心、AI等领域。具体拆解HBM来看,每个HBM封装内部都堆叠了多层DRAMDie,各层DRAMDie之间以硅通孔(TSV)和微凸块(microbump)连接,最后连接到下层的HBM控制器的逻辑die。整个3D结构(称为一个HBM堆栈)的最下层通过硅中介(silicon interposer)与GPU/CPU/SocDie等互联。 图1:HBM示意图 对比其他内存方案,HBM2拥有更宽的传输位宽。从传输位宽的角度来看,HBM3标准支持密度高达32 Gb的设备以及高达16层的堆栈,从而获得64 GB的总存储空间,其单芯片接口宽度可达1024bit,接口传输速率可达6.4Gbps,一个HBM3堆栈封装的总带宽达到819GB/s。相比之下,GDDR5内存的单个通道位宽32位,其总带宽只有32GB/s。 表1:HBM3与其他内存方案对比 HBM技术不断发展,向高带宽大容量演进。自2013年HBM1发布开始发展至2021年发布的HBM3,HBM在各个层面都进行了扩充升级,数据传输速率(I/O速度)从1Gbps提速至6.4Gbps;内存带宽从128GB/S提升至819GB/S; 最高堆栈层数从4层增加到12层,其每层最高内存容量也从1GB进化到了24GB。 2023年5月,龙头企业SK海力士更进一步推出了HBM3E,HBM3E相较HBM3带宽更升级至1TB/s,数据传输速率(I/O速度)升级至6Gbps。海力士宣布将于2023年下半年发布样品,2024年上半年投入生产,英伟达、AMD、微软、亚马逊等海外AI领域科技巨头相继向SK海力士申请了HBM3E的样片。 表2:HBM技术性能发展 AI服务器要求GPU高带宽、大容量数据传输,带动HBM应用增长。在AI模型趋向复杂的形势下,AI服务器对于存储器传输速度以及容量的要求提升,刺激存储器用量增长,从而带动HBM需求上升。作为VRAM(video random-access memory)的最先进技术,HBM具有耗电量少、堆叠内存、占用空间少、支持高带宽和低时钟速度的优势,广泛应用于显存领域。例如,2015年AMD的GPU产品Fiji首次应用了HBM技术;NVDIATesla P100则是最早采用HBM2存储的GPU;Intel推出的第四代处理器Sapphire Rapids引入了HBM2E,为CPU工作负载提供类似GPU的高内存带宽。而目前,NVIDIA所推出DGXA100、H100和GH200也采用了HBM2/HBM2E和HBM3内存。 NVIDIA A100采用 7nm 台积电工艺,搭载了HBM内存技术。A100首先采用HBM2,接着替代为HBM2E,将内存从40GB提高至80 GB,内存带宽从1.6TB/s提高至2TB/s。 NVIDIA的Hopper H100采用 4nm 台积电工艺,搭载了HBM3内存技术。H100 GPU采用 4nm 台积电工艺,相比A100增加了40%的晶体管数量,并采用HBM3技术,将内存容量过渡到80GB,内存带宽过渡到3.2TB/s。 图2:搭载HBM2技术的A100 GPU和HBM3的H100 GPU 此外,NVDIA又推出专门针对大型语言模型(LLM)的新H100加速器H100 NVL,拥有双GPU卡,可提供188GB的HBM3内存。且相比于A100和H100仅提供5个堆栈以提高良率,H100 NVL的6个堆栈全部打开,共提供6144 bit的位宽。 2023年5月,NVDIA发布了DGXGH200超级服务器,其系统中集成多达256颗GPU,通过NVLink可高速访问144TB的内存。 表3:NVDIA DGX系统中GPU对应HBM应用方案对比DGX系统HBM 随着当前A100和H100等芯片的上量,HBM用量需求也大幅提升。 TrendForce以bit为计算基础,推算HBM目前约占整个DRAM市场的1.5%,预计2023年全球HBM需求量将年增58%,达到2.9亿GB,2024年将再增长30%。 全球厂商争抢HBM技术高地,打响内存技术升级之战。HBM具有非常高的准入门槛,仅有SKhynix、Samsung和Micron三大龙头厂商争抢技术高地,目前呈现三足鼎立格局。根据TrendForce的报告,2022年HBM市场份额的顺序为SKhynix(50%)、Samsung(40%)和Micron(10%),其中SKhynix和Samsung共占领90%的份额,基本垄断市场。伴随NVIDIA H100与AMDMI300的搭载,2023下半年三大原厂均规划相对应规格HBM3的量产。据TrendForce预测,2023年SK海力士的整体HBM市占率可望借此提升至53%,而三星、美光则预计陆续在今年底至明年初量产HBM市占率分别为38%及9%。 图3:三大内存大厂HBM发展历程 1.2设备端:TSV和晶圆级封装需求增长 由于独特的3D堆叠结构,HBM芯片为上游设备带来了新的增量,我们分前、中、后道来讨论。 1)前道环节,HBM需要通过TSV来进行垂直方向连接,增加了TSV刻蚀设备需求,国内厂商北方华创、中微公司均有布局。 2)中段环节,与倒装芯片类似,HBM也是通过microbump焊球进行连接,需要在晶圆级封装环节制造焊球,晶圆级封装需要的设备与前道晶圆制造类似,涉及光刻机、涂胶显影设备、薄膜设备、电镀设备、刻蚀设备、清洗设备、量测设备等。国产诸多公司都有相关业务:北方华创(刻蚀、薄膜、清洗等)、芯源微(涂胶显影、清洗)、盛美上海(电镀、清洗、涂胶显影、抛光)、中科飞测(检测)等。 3)后道环节,HBM在后道封装环节依旧需要diebond等封装设备,以及存储芯片测试设备,国内封装设备厂商包括新益昌、ASMP,测试设备厂商包括长川科技、华峰测控、金海通等。 图4:HBM内部结构 图5:HBM芯片通过microbump堆叠连接 1.3材料端:先进制造及封装材料用量显著提升 具体拆解HBM来看,每个HBM封装内部都堆叠了多层DRAM Die,各层DRAM Die之间以硅通孔(TSV)和微凸块(microbump)连接,最后连接到下层的HBM控制器的逻辑die。整个3D结构(称为一个HBM堆栈)的最下层通过硅中介(silicon interposer)与GPU/CPU/Soc Die等互联。因此HBM的独特性主要体现在堆叠与互联上,我们分制造材料、封装材料来讨论HBM芯片为上游材料带来的显著增量。 1)制造材料:HBM核心之一在于堆叠,HBM3更是实现了12层核心Die的堆叠,多层堆叠对于制造材料尤其是前驱体的用量成倍提升,制造材料核心厂商包括:雅克科技、神工股份等。 2)封装材料:HBM将带动TSV和晶圆级封装需求增长,而且对封装高度、散热性能提出更高要求,封装材料核心厂商包括:联瑞新材、华海诚科、飞凯材料等。 图6:HBM3拆解 图7:HBM芯片TSV互联 1.4国产供应链 雅克科技:国内稀缺半导体材料平台型公司,海力士前驱体核心供应商 半导体前驱体材料是半导体材料中应用于薄膜沉积工艺的核心材料,主要应用在半导体集成电路存储、逻辑芯片的制造环节。雅克科技子公司UPchemical是全球领先的前驱体供应商之一,产品在DRAM可以满足全球最先进存储芯片制程1b、200X层以上NAND、逻辑芯片3纳米的量产供应,主要客户涵盖SK海力士、美光以及国内的长江存储、合肥长鑫。 公司的前驱体材料拥有自主知识产权并获得多项国际发明专利,产品种类丰富,覆盖硅类前驱体、High-K前驱体、金属前驱体,可以灵活根据下游客户的不同工艺选择不同结构的产品,定制化满足不同客户的产线需求。公司前驱体成熟产品,在国际领先的半导体客户实现量产供应多年,完全满足国内所有技术节点的客户需求,主流产品国内进入放量阶段,产品销量和竞争力稳居市场前列。江苏先科宜兴生产基地今年具备本地化供应能力。 联瑞新材:HBM芯片封装材料上游材料核心供应商 公司致力于成为全球领先的功能性粉体材料及应用方案供应商,产品销售至芯片封装用环氧塑封材料(EMC)、液态塑封材料(LMC)和底部填充材料(Underfill)等封装材料厂商,以及覆铜板、热界面材料、胶黏剂、先进绝缘品、蜂窝陶瓷、3D打印、齿科材料等领域,品牌影