半导体设备行业跟踪：荷兰正式宣布半导体出口管制新规，涉及光刻机、ALD、EPi等

事件：2023年6月30日，荷兰外交部在政府公报（2023年,编号18212）中披露先进半导体设备出口管制新条例。出于国家外交与安全政策考虑，该法规规定未经对外贸易和发展合作部长许可，禁止从荷兰出口部分先进薄膜沉积设备与浸润式光刻机。该法规将于2023年9月1日生效。 点评：根据该出口管制新条例及ASML官网声明，除了早在2019年就受到出口限制的EUV外，2000i及更先进的光刻机将受限制，单次曝光可覆盖 38nm 以上制程的1980Di因其DCO≤ 1.6nm 或将不受影响。我们认为本次光刻机方面的管制内容暂未超出2023年3月份ASML的官网声明，但出台了关于ALD薄膜设备与外延设备出口管制细则，而在2023年3月8日荷兰对外贸易和发展合作部长致众议院的函件中仅提到先进薄膜沉积设备。 荷兰拥有全球领先的ALD薄膜沉积设备供应商ASM国际，该出口管制新规将影响其ALD设备与外延设备的出口。ASMI 2022财年收入24.11亿欧元，同比增长39%。ASMI在1999年收购位于芬兰赫尔辛基的Microchemistry公司（赫尔辛基大学教师的初创公司，赫尔辛基大学是世界上最大的ALD学术研究中心），目前ALD设备为第一大收入来源，Epi则为第二大收入增长引擎。其在财报中预计：单片ALD市场规模在2025年将增长至31-37亿美元，公司目标是获得55%以上的市场份额，当前市场份额约为50%；外延硅设备市场规模将从2020年的8亿美元增长至2025年的15-18亿美元，届时公司目标是获得30%以上的市场份额。营收的区域来源上看，2022年ASMI在亚洲/美国/欧洲的收入占比分别为65.7%/23.3%/11%，其中亚洲的收入占比较2021年提升1.9pct。 金属类原子层沉积设备的出口限制涉及工艺范围广，国内已有设备商布局。根据该出口管制新条例，用于沉积一种以上金属源（其中一种已开发用于铝前驱体），原料容器设计温度高于45℃，沉积碳化钛铝以及高于4.0eV的特定功函数金属的ALD设备出口均需获得许可。ALD最为适用于先进制程与三维复杂化的先进存储领域，ALD尤其是Termal ALD在金属、金属氮化物等薄膜沉积中的应用广泛，所涉及的工艺节点较多，我们认为该出口限制会调动全产业链协同攻坚，加大、加快晶圆厂对国产替代性设备的验证力度与验证进度，实现国产替代。 相关上市公司： 拓荆科技：据公司2022年年报，可沉积SiO2、SiN等多种介质薄膜材料的PE-ALD设备已实现产业化应用，2022年该产品销售收入3,258.67万元，同比增长 13.85%；可沉积 Al2O3 等多种金属化合物薄膜材料Thermal-ALD设备已完成开发，已发货至客户端验证。 微导纳米：国内首家推出 28nm 制程逻辑芯片栅极介质层HfO薄膜沉积量产型ALD设备的公司，并取得重复订单，覆盖逻辑、存储、第三代化合物半导体、硅基微型显示芯片等领域，包括HfO、ZrO、LaO、 TiO2 、TiN、AIO、AIN等镀膜工艺，工艺类型较为齐全，验证较多。 中微公司：据公司2022年年报，ALD钨设备已开始实验室测试，同时和关键客户开始对接验证；应用于高端存储和逻辑器件的ALD氮化钛设备已进入实验室测试阶段。 北方华创：先后研制了Thermal ALD、PEALD设备两个系列产品，可沉积Oxide、PE-SiN、PE-SiO、TiN、AIN多种薄膜。 投资建议：ALD设备作为先进IC的核心工艺设备，海外的封锁将推进国产替代，建议关注拓荆科技、微导纳米、中微公司、北方华创、盛美上海。 风险分析：先进制程扩产不及预期；设备验证不及预期；贸易摩擦加剧。 表1：行业重点上市公司盈利预测、估值 1、附录 图1：ASMI产品布局 表2：荷兰最新半导体设备出口管制条例以及对应的海内外供应商 表3：常见金属的功函数 表4：ALD国内参与者众多，但都处于起步阶段