2023年中国光刻胶/显影设备行业词条报告

Leadleo.com 客服电话：400-072-5588 2023年中国光刻胶/显影设备行业词条报告 陈志煌 2023-02-08未经平台授权，禁止转载 制造业/计算机、通信和其他电子设备制造业/电子元件及电子专用材料制造 信息科技/半导体 行业： 光刻类涂胶 显影设备 关键词： 行业定义 光刻胶本质是一种感光材料，也称光致抗蚀剂，主要用于… AI访谈 行业分类 分类上，按照下游应用领域，光刻胶可分为IC光刻胶、… AI访谈 行业特征 中国半导体市场规模需求增大，带动涂胶显影设备市场… AI访谈 发展历程 光刻胶/显影设备行业目前已达到3个阶段 AI访谈 产业链分析 上游分析中游分析下游分析 AI访谈 行业规模 光刻胶作为制造关键原材料，随着未来汽车、人工智能、… AI访谈数据图表 政策梳理 光刻胶/显影设备行业相关政策5篇 AI访谈 竞争格局 光刻胶行业具有品种多、专业跨度大、专用性强的特点，… AI访谈数据图表 摘要光刻胶本质是一种感光材料，也称光致抗蚀剂，主要用于微电子技术中微细图形加工。在紫外光、电子束、离子束、X射线等照射或辐射下，光刻胶溶解度会发生变化，再经适当溶剂溶去可溶性部分，便可实现图形从掩模版到待加工基片上的转移。进一步，未溶解部分光刻胶作为保护层，在刻蚀步骤中保护其下方材料不被刻蚀，从而完成电路制作。 光刻胶/显影设备行业定义 光刻胶本质是一种感光材料，也称光致抗蚀剂，主要用于微电子技术中微细图形加工。在紫外光、电子束、离子束、X射线等照射或辐射下，光刻胶溶解度会发生变化，再经适当溶剂溶去可溶性部分，便可实现图形从掩模版到待加工基片上的转移。进一步，未溶解部分光刻胶作为保护层，在刻蚀步骤中保护其下方材料不被刻蚀，从而完成电路制作。涂胶显影设备是集成电路制造过程中不可或缺的关键处理设备。涂胶显影设备是与光刻机配合进行作业的关键处理设备，主要负责涂胶、烘烤及显影。[1] [1]1：https://baijiahao.baidu…2：间接引用 光刻胶/显影设备行业分类 分类上，按照下游应用领域，光刻胶可分为IC光刻胶、PCB光刻胶、LCD光刻胶。IC光刻胶根据曝光波长又可分g线光刻胶(436nm)、i线光刻胶(365nm)、KrF光刻胶(248nm)、ArF光刻胶(193nm)、EUV光刻胶(13.5nm)等，通常情况下曝光波长越短，分辨率越佳，适用IC制程工艺越先进。按照化学反应原理，光刻胶可分为正性光刻胶和负性光刻胶。正性光刻胶曝光部分在显影液中溶解，负性光刻胶未曝光部分在显影液中溶解。由于负性光刻胶显影时易变形和膨胀，自1970s以后正性光刻胶逐渐成为主流。[2] 半导体光刻胶 该种类技术难度最大，国产化程度最低。分为紫外宽谱、g线、i线、KrF、ArF、EUV。其中，紫外宽谱曝光波长300-450nm，用于＜5寸晶圆；g线：多为正胶，曝光波长436nm，用于6寸晶圆；i线：多为正 胶，曝光波长365nm，用于6寸、8寸晶圆；KrF:正负胶都有，曝光波长248nm，用于8寸晶圆；ArF:多为正胶，曝光波长193nm，用于12寸晶圆；EUV，曝光波长13.5nm，用于12寸晶圆。 光刻胶/显 影设备分类 LCD光刻胶 该种类分为彩色/黑色光刻胶，触摸屏用光刻胶，TFT-LCD光刻胶。其中，彩色/黑色光刻胶用于制备彩色滤光片；触摸屏用光刻胶，用于在玻璃基沉积ITO制作触 摸电极；TFT-LCD光刻胶，用于细微图形加工。 PCB光刻胶 该种类分为干膜光刻胶，湿膜光刻胶，光成像阻焊油 墨。 [2]1：https://baijiahao.baidu…2：间接引用 光刻胶/显影设备行业特征 中国半导体市场规模需求增大，带动涂胶显影设备市场规模增长。光刻胶/显影设备行业不仅直接影响到光刻工序细微曝光图案的形成，显影工艺的图形质量对后续蚀刻和例子注入等工艺中图形转移的结果也有着深刻的影响。[3] 1市场规模稳步增长 全球晶圆厂扩产推进，市场规模稳定增长 近年来随着全球晶圆厂扩产进程的推进，全球前道涂胶显影设备市场规模整体稳步增长。据统计，全球前道涂胶显影设备市场规模由2019年的17.85亿美元增长至2020年的19.05亿美元，预计2023年将达到24.76亿美元，年均复合增长率达8.52%。中国大区（含中国台湾地区）前道涂胶显影设备市场规模预计由2016年的8.57亿美元增长至2023年的10.26亿美元，年均复合增长率有望达7.78%。 2国产实现进口替代 全球涂胶显影设备行业集中度较高，中国涂胶显影设备国产化率仅为4% 全球涂胶显影设备行业集中度较高，CR3超过90%。中国涂胶显影设备国产化率仅为4%，芯源微在涂胶显影设备方面已成功打破国外厂商垄断。TEL在中国大陆的市占率高达91%，其次为Screen（迪恩士），占比接近5%。在集成电路前道晶圆加工环节，包括i-line、KrF、ArF等制程工艺，作为国产化设备已逐步得到验证及应用，实现小批量替代；在集成电路制造后道先进封装、化合物、MEMS、LED芯片制造等环 节，国内厂商主流机型已广泛应用在国内知名大厂，成功实现进口替代。 3集成电路过程不可或缺 集成电路产能要求的不断提升，涂胶显影设备日益重要 随着集成电路制造工艺自动化程度及客户对产能要求的不断提升，在200mm（8英寸）及以上的大型生产线上，涂胶显影设备一般都与光刻设备联机作业（InLine），组成配套的圆片处理与光刻生产线，与光刻机配合完成精细的光刻工艺流程。涂胶显影设备会直接影响到光刻工序细微曝光图案的形成，是集成电路制造过程中不可或缺的关键处理设备。 [3]1：https://www.leadleo.c… 2：头豹分析师观点 光刻胶/显影行业发展历程 随着高集成度、超高速、超高频集成电路及元器件的开发，集成电路与元器件特征尺寸呈现出越来越精细的趋势，加工尺寸达到百纳米直至纳米级，光刻设备和光刻胶产品也为满足超微细电子线路图形的加工应用而推陈出新。光刻胶的分辨率直接决定了特征尺寸的大小，通常而言，曝光波长越短，分辨率越高，因此为适应集成电路线宽不断缩小的要求，光刻胶的曝光波长由紫外宽谱向ｇ线(436nm)→ｉ线 始于（1950s-1980s）1950-1980 酚醛树脂-重氮萘醌正性光刻胶（宽谱紫外正胶、g线正胶、i线正胶）□聚乙烯醇肉桂酸酯及其衍生物 类光刻胶体系□环化橡胶-双叠氮系光刻胶 光刻胶自1959年被发明以来就成为半导体工业最核心的工艺材料之一。随后的几十年内，光刻胶被 改进运用到印制电路板的制造工艺，成为PCB生产的重要材料。 成于（1980s-2000s）1980-2000 g线光刻胶、i线光刻胶、KrF光刻胶、ArF光刻胶 自二十世纪90年代开始，光刻胶又被运用到平板显示的加工制作，对平板显示面板的大尺寸化、高精 细化、彩色化起到了重要的推动作用。 (365nm)→KrF(248nm)→ArF(193nm)→F2（157nm）的方向转移，并通过分辨率增强技术不断提升光刻胶的分辨率水平。[4] [4]1：https://zhuanlan.zhihu…2：间接引用 盛于（21世纪至今）2000-2022 g线/i线光刻胶、KrF光刻胶、ArF光刻胶、EUV光刻胶 在微电子制造业精细加工从微米级、亚微米级、深亚微米级进入到纳米级水平的过程中，光刻胶起着 举足轻重的作用，目前全球光刻胶供应市场高度集中，核心技术掌握在日本和美国手中。 光刻胶/显影行业产业链分析 光刻是光电信息产业链中核心环节。光刻技术是指利用光学-化学反应原理和化学、物理刻蚀方法，将图形传递到介质层上，形成有效图形窗口或功能图形的工艺技术，是光电信息产业链中的核心环节之一。目前，全球缺芯背景下晶圆厂产能扩张正逐步迎来落地，半导体光刻胶市场需求稳步向上。对于产业链上游，主要为原材料及设备，包括树脂、溶剂、单体、光引发剂、生产设备以及检测设备等，全球主要生产企业分布于日本、美国、中国、韩国、英国以及荷兰，其中在日本的企业占比最大为49%。对于中游的核心环节来说，全球光刻胶供应市场高度集中，行业呈现寡头垄断格局，市场主要被日美公司垄断。前五大光刻胶企业占据了全球光刻胶市场87%的市场份额。技术方面也是如此，尤其在高分辨率的KrF和ArF光刻胶领域，中国本土企业仍然具有较大差距。而 针对于产业链下游，全球市场中，半导体、面板、PCB用光刻胶的供应结构较为均衡；但中国市场中，本土供应以PCB用光刻胶为主，面板、半导体用光刻胶供应量占比极低。 因此，整体来看光刻胶从上至下的产业链都面临着较大的技术壁垒；目前中国企业正积极追赶国际最先进的光刻胶技术，大量投入研发积累核心竞争力。受益于本土半导体产能持续扩大，国内光刻胶生产商未来有望把握进口替代契机实现快速发展。[5] 生产制造端 溶剂、树脂、光引发剂、单体、其他 上游厂商 查看全部 常州强力电子新材料股份有限公司 徐州博康信息化学品有限公司 济南圣泉集团股份有限公司 产业链上游说明 从上游原材料来看，大陆企业在上游原材料均有布局。然而，国内从事光刻胶原材料研发及生产的供应商较少，光刻胶制造商对于光刻胶原材料主要依赖于进口，在原材料环节的议价能力弱。从成本来看，树脂占光刻胶总成本的50%，在光刻胶各成分中占比最大；其次单体的占比为35%，光引发剂及其他助剂占比15%。ArF光刻胶树脂质量占比仅5%-10%，但成本占光刻胶原材料总成本的97%以上。经过多年技术积累，国内已形成一定光刻胶用电子化学品产能，相关公司市场份额逐步提升，国产替代正持续进行。 上 中 产业链上游 品牌端 PCB光刻胶：干膜光刻胶、湿膜光刻胶、阻焊油墨 LCD光刻胶：彩色光刻胶、干膜光刻胶触摸屏光刻胶、TFT-LCD光刻胶 半导体光刻胶：g线光刻胶、KrF光刻胶、i线光刻胶、ArF光刻胶、EUV光刻胶 中游厂商 查看全部 彤程新材料集团股份有限公司 晶瑞电子材料股份有限公司 上海新阳半导体材料股份有限公司 产业链中游说明 产业链中游 对于中游头部企业来说，前五大光刻胶企业分别为合成橡胶(日本)、东京应化(日本)、罗门哈斯(美国)、信越化工(日本)、富士电子(日本)，主要技术依旧占据在日美企业手中。竞争方面，即便面板、 半导体光刻胶自给率依然很低，占比分别为3%、2%，进口依赖性高。国产光刻胶在中游制造方面已经取得了里程碑式的突破，涌现出一批优秀企业，2022年国产半导体光刻胶有望开花结果实现放 量。 渠道端及终端客户 PCB、平板显示、半导体、微电子机械系统、其他 渠道端 查看全部 深圳方正微电子有限公司 华虹半导体（无锡）有限公司 台灣積體電路製造股份有限公司 产业链下游说明 针对于光刻胶下游需求来说，我国光刻胶主要集中在中低端的PCB光刻胶，面板光刻胶国产化率次之，半导体光刻胶严重依赖进口。下游厂商制造工艺进步将倒逼光刻胶与原材料配套进行技术迭代。然而，不得不承认的是全球光刻胶研制专利主要分布在日美，合计占比高达82%。技术壁垒表现在光刻胶工艺复杂，定制化程度高，且难以对光刻胶成品进行逆向分析和仿制。即便国产替代与扩产规划同步带来光刻胶厂商替换与增量市场机会，中短期内中国企业难以有较大突破。 [5]1：https://baijiahao.baidu…2：间接引用 下 产业链下游 光刻胶/显影行业规模[6] 光刻胶作为制造关键原材料，随着未来汽车、人工智能、国防等领域的快速发展，全球光刻胶市场规模将有望持续增长。全球光刻胶市场预计2019-2026年复合年增长率有望达到6.3%，至2023年突破100亿美元，到2026年超过120亿美元。大陆市场增速高于全球，2022年有望超过百亿人民币。叠加产业转移因素，中国光刻胶市场的增长速度超过了全球平均水平。根据数据，2021年中国光刻胶市场达93.3亿元，16-21年CAGR为11.9%，21年同比增长11.7%，高于同期全