芯源微：22年业绩高增，23年前道track有望快速放量

事件概述： 公司发布2022年年报：全年营收13.85亿元，YoY+67.12%；归母净利润2.00亿元，YoY+1 58.77%；扣非归母净利1.37亿元，YoY+114.99%；毛利率38.40%，YoY+0.38pcts，净利率14.45%，YoY+5.12pcts。22Q4：营收4.88亿元，QoQ+24.40%、YoY+73.43%；归母净利0.5 7亿元，QoQ-22.39%、YoY+135.48%；扣非归母净利0.38亿元，QoQ+14.30%、YoY+112.37%。 毛利率35.28%，QoQ-4.78pcts，YoY+0.12pcts；净利率11.70%，QoQ-7.06pcts，YoY+3.08 pcts。 前道设备快速放量，大客户持续突破 公司22年营收实现大幅增长，系新签订单规模同比大幅增长，在保持小尺寸及集成电路后道先进封装领域产品收入稳步增长的同时，集成电路前道晶圆加工领域产品收入也实现快速放量：1）前道涂胶显影机：22年新签订单规模同比大幅增长，已陆续获得了中芯京城、上海华力、长江存储、合肥长鑫、武汉新芯、厦门士兰集科等主要晶圆厂客户的订单；2）前道物理清洗设备：2022年获得中芯国际、上海华力等国内多个前道大客户的重复订单，2 2销售近百台套，前道物理清洗机在自动刷压控制技术上已达到国际先进水平，国内市占率稳步提升；3）后道先进封装相关设备：已成为台积电、长电科技等国内一线大厂的主力量产设备，正处于持续出货中；4）小尺寸设备：目前作为主流机型已批量应用于三安光电、中芯宁波等客户，在手订单饱满。 28nm 浸没式设备在客户端完成验证，进一步打开成长空间 1）22年公司多项前道track技术取得突破：公司成功掌握超高温度与超高精度烘烤固化技术、自动光学缺陷检测技术，能满足更高等级工艺需求。WEE边缘曝光技术、边缘旋涂技术实现突破，能为客户节省光刻胶。NTD负显影技术的突破有效降低了显影缺陷，提高产品良率。核心技术的突破能为客户提供更为丰富和先进的产品方案；2） 28nm 涂胶显影设备在客户端完成验证：公司22年12月推出新一代浸没式涂胶显影机，该机型可在复杂光刻工艺下实现300片以上产能，同时可匹配所有主流光刻机联机量产，通过选配覆盖国内 28nm 及以上所有工艺节点、覆盖offline Barc、KrF、ArF、浸没式等光刻工艺。目前该机型已在客户端完成验证，预计23年可实现批量订单。由于国内前道涂胶显影设备市场国产化率较低，替代空间大，随着公司产品的不断成熟，其市场份额有望快速提升。 临港项目顺利封顶 公司募投项目上海芯源微临港生产基地已于23年1月顺利封顶。项目达产后生产前道ArF涂胶显影机、浸没式涂胶显影机、单片化学清洗机等设备，总体来看，预计公司在2024年能达到40-50亿的产能，为营收增长提供产能保障。 投资建议 公司22年业绩高增，订单量增长迅速且在手订单充足，未来有望持续放量。我们上修公司2023/24/25年收入至20.3/28.5/41.7亿元（23/24年原预测为20.5/27.0亿元），同期归母净利调整为2.8/4.0/5.8亿元（23/24年原预测为2.9/3.8亿元），对应PS为13/9/6倍。 公司作为国产涂胶显影设备龙头，竞争优势有望进一步巩固。我们维持公司的“买入”评级。 风险提示 下游景气不及预期，研发验证不及预期，募投项目进展不及预期。 盈利预测表