2022年扣非净利润高速增长,在手订单充足,维持“买入”评级 2023年3月30日,公司发布2022年年报,2022年实现营收47.40亿元,同比+52.50%;归母净利润11.70亿元,同比+15.66%;扣非净利润9.19亿元,同比+183.44%;毛利率45.74%,同比+2.38pcts。计算得2022Q4单季度实现营收16.97亿元,同比+63.88%,环比+58.39%;归母净利润3.77亿元,同比-19.75%,环比+15.88%;扣非净利润2.76亿元,同比+72.79%,环比+35.60%。截止2022年底,公司合同负债21.95亿元,相比2022Q3+2.26亿元,在手订单高增。我们上调2023-2024年业绩预测并新增2025年业绩预测,预计2023-2025年归母净利润为13.84(+0.24)/17.37(+1.23)/21.46亿元,对应EPS为2.25(+0.04)/2.82(+0.20)/3.48元,当前股价对应PE为62.3/49.7/40.2倍,维持“买入”评级。 产品持续升级打开增长空间,股权激励显示增长信心 截止2022年底,公司有3311个反应台在86家客户的106条产线全面量产,2022年累积装机台数增长超40%。CCP,公司2022年共运付475个CCP刻蚀反应腔,同比+59.40%,在逻辑方面实现 5nm 芯片生产线的多次批量销售,在存储方面通过多个动态存储器验证,取得重复订单。ICP,公司推出用于高深宽比结构刻蚀的两种单台机设备,特色器件市场的双台机设备,丰富产品的同时,形成完整的单台和双台刻蚀设备布局,同时深硅刻蚀设备在300mm的3D芯片的硅通孔工艺实现成功验证。MOCVD方面,截止2022年底,公司累计的MOCVD产品出货量超500腔,持续保持国际氮化镓基MOCVD市场领先地位,同时布局功率器件应用的第三代半导体设备市场,推出用于氮化镓功率器件的设备已交付国内外领先客户生产验证,并取得重复订单。薄膜沉积设备方面,公司首台CVD钨设备付运到关键存储客户端验证评估,新型号的CVD钨和ALD钨设备已开始和关键客户对接验证。同时公司发布限制性股权激励方案,计划向99%员工以50元价格授予550万股,归属条件为以2022年为基数,2023-2026年各年累计营收增速高于同期全球销售额前五半导体设备商的累计营收增速平均数。 风险提示:行业需求下降风险;行业竞争加剧风险;技术研发不及预期。 财务摘要和估值指标 附:财务预测摘要