【财通电子：2023时代主题系列之6】光刻机专题：光刻为半导体设备之巅，冰山峰顶

【财通电子：2023时代主题系列之6】光刻机专题：光刻为半导体设备之巅，冰山峰顶待国产曙光 各位领导好！我们发布了光刻机行业深度报告，对光刻的技术节点、产线配置、工作原理、零件组成与市场格局等做了详细研究。鉴于日荷两国光刻机可能进口受限，我们整理了光刻机型号参数与纳米制程对应表，如果有需要欢迎联系！ 光刻设备市场格局：2021年，全球光刻设备市场规模超180亿美元，光刻机零部件市场规模至少为70亿美元（估算），中国大陆市场规模约为27亿美元；浸没式光刻机采用可编程光照、畸变修正、热效应修正、对准与表面测量等高难度技术；我们深入调研产业一线，了解国产光刻机的难点痛点。 光刻自主化，市场的倍增器：若国产光刻机使用多重曝光工艺，构建先进制程产线，其投资规模与经济效益将翻数倍，有望大幅拉动其他国产设备需求（详细投资）；此外，成熟制程与3DNAND扩产不依赖先进光刻机，自主化后企业最大后顾之忧解除，扩产规模有望大幅提升；中国半导体制造、设备、材料、设计的空间也将更为广阔。 虽然国产光刻机距上线还有一段时间，但光刻零件与配套设备已取得突破；相关企业有望先行受益，并助力国产光刻与量测等光学设备，迈向更高端工艺。