本报告是关于2021-2023年全球PCB曝光设备行业市场研究报告。报告指出,光刻技术是人类迄今所能达到的尺寸最小、精度最高的加工技术,是利用光学-化学反应原理和化学、物理刻蚀方法,将设计好的微图形结构(如电路线路图)转移到覆有感光材料的晶圆、玻璃基板、覆铜板等基材表面上的微纳制造技术。光刻技术主要包括预处理、涂胶、曝光、显影、蚀刻和去胶等一系列环节,整个工艺流程是一个复杂的过程,各工艺环节互相影响、互相制约。曝光工序是光刻技术中最重要的工艺环节,决定了微图形结构及其产品的质量。报告还介绍了光刻技术的应用领域,以及不同应用领域的光刻技术要求。同时,报告还介绍了PCB制造的主要工艺流程,以及曝光设备在PCB制造中的关键作用。