商贸零售行业点评报告：美国限制半导体材料金刚石出口，国内培育钻石头部企业有望迎来发展新机遇

美国商务部限制半导体材料金刚石出口：美国时间8与12日，美国商务部宣布从8月15日开始对四项技术加入商业管制清单，开始限制其出口，这四项技术分别是宽禁带半导体材料氧化镓（ Ga2O3 ）和金刚石； 开发GAAFET（全栅场效应晶体管）结构集成电路的ECAD软件和压力增益燃烧技术（PGC）。 不仅仅是培育钻石，CVD法工业金刚石还可用于半导体材料：CVD法的人造金刚石除了在消费端用于宝石级的钻石外，还能在工业上作为高端半导体材料，相较于其他半导体材料，金刚石半导体材料的优势主要体现在更高的载流子迁移率、更高的击穿电场、更大的热导率，可以满足未来大功率、强电场和抗辐射等方面的需求，是制作功率半导体器件的理想材料。未来应用场景广阔。 半导体金刚石材料主要通过MPCVD技术路径，我国目前在该场景应用仍处于发展早期：在人造金刚石的各种生产方法中，MPCVD无极放电、无污染、外延可控性强，在大尺寸、高纯度金刚石制备与掺杂研究方面优势更明显，因此金刚石半导体材料大多通过MPCVD技术路径。 目前中兵红箭CVD技术已经取得突破，单炉MPCVD设备可生长14颗10克拉以上的单晶毛坯，生长速率11μm/h以上，沃尔德在金刚石功能材料超过15年的技术储备和研究，部分产品已经开始实现商业化，四方达的MPCVD法培育钻石已经在逐步投产，已实现对外实际销售。国机精工新型高功率MPCVD法大单晶金刚石项目已在逐步投产中。 投资建议：CVD工业金刚石凭借其更强的高温高压耐受性能，在半导体领域有较大的应用潜力，不仅仅是培育钻石，国内CVD工业金刚石头部企业将有望迎来更广阔的的市场空间，推荐中兵红箭，建议关注沃尔德，四方达和国机精工。 风险提示：CVD工业金刚石产能推广不及预期，商业化进程不及预期等 表：重点公司估值 1.美国限制半导体材料金刚石出口，国内培育钻石头部企业有望 迎来发展新机遇 美国商务部限制半导体材料金刚石出口：美国时间8与12日，美国商务部宣布从8月15日开始对四项技术加入商业管制清单，开始限制其出口，这四项技术分别是宽禁带半导体材料氧化镓（ Ga2O3 ）和金刚石；开发GAAFET（全栅场效应晶体管）结构集成电路的ECAD软件和压力增益燃烧技术（PGC）。 不仅仅是培育钻石，人造金刚石还可用于半导体材料：人造金刚石除了在消费端用于宝石级的钻石外，还是一种超宽禁带半导体材料，其禁带宽度为5.5 eV，能在工业上作为高端半导体材料，相较于其他半导体材料，金刚石半导体材料的优势主要体现在更高的载流子迁移率、更高的击穿电场、更大的热导率，可以满足未来大功率、强电场和抗辐射等方面的需求，是制作功率半导体器件的理想材料。未来应用场景广阔。 高温高压法工业金刚石多用于开采，切割场景，CVD法工业金刚石多用于高精尖的功能性材料。人造金刚石生产方式分为HPHT（高温高压法）及CVD（化学气相沉积法），前者主要利用的是金刚石的硬度特性，其生产的金刚石单晶及微粉多用于制作锯切、钻进、磨削等工具性产品，CVD法主要应用的是金刚石的在光电声热等方面具备特殊性能，多用于芯片、传感器等制作功能性产品。 表1：高温高压法和CVD法人造金刚石在工业上用途对比 半导体金刚石材料主要通过MPCVD技术路径，我国目前在该场景应用仍处于发展早期：在人造金刚石的各种生产方法中，MPCVD无极放电、无污染、外延可控性强，在大尺寸、高纯度金刚石制备与掺杂研究方面优势更明显，因此金刚石半导体材料大多通过MPCVD技术路径。目前中兵红箭CVD技术已经取得突破，单炉MPCVD设备可生长14颗10克拉以上的单晶毛坯，生长速率11μm/h以上，沃尔德在金刚石功能材料超过15年的技术储备和研究，部分产品已经开始实现商业化，四方达的MPCVD法培育钻石已经在逐步投产，已实现对外实际销售。国机精工新型高功率MPCVD法大单晶金刚石项目已在逐步投产中。 投资建议：CVD工业金刚石凭借其更强的高温高压耐受性能，在半导体领域有较大的应用潜力，不仅仅是培育钻石，国内CVD工业金刚石头部企业将有望迎来更广阔的的市场空间，推荐中兵红箭，建议关注沃尔德，四方达和国机精工。 风险提示：CVD工业金刚石产能推广不及预期，商业化进程不及预期等