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彤程新材光刻胶业务的核心竞争力是什么？
彤程新材作为光刻胶国产领先厂商，其核心竞争力在于ArF光刻胶的国产突破。公司自2025年开始实现ArF光刻胶的批量供货，标志着国产化从0到1的突破，2026年已稳定批量供应，随对日替代及客户端持续放量，业绩快速增长。此外，KrF光刻胶业务市占率持续攀升，在售产品超过60款，BARC开始放量。公司研发投入大，2026年研发项目近200项，超半数已进入客户端批量验证阶段，上半年超20款产品获得客户正式量产订单。
光刻胶赛道的发展趋势如何？
光刻胶赛道的发展趋势聚焦于高端光刻胶的国产替代。ArF光刻胶作为壁垒最高的半导体材料之一，国产化率极低，彤程新材的突破具有标志性意义。随着国内半导体产业链的完善，对高端光刻胶的需求将持续增长，国产替代空间巨大。彤程新材在KrF、i线及ArF光刻胶领域的布局，以及CMP抛光垫、高纯溶剂EBR、有机绝缘膜等拓展材料的进展，均显示其在产业链中的持续深耕和拓展能力。
研报重点分析了彤程新材的哪些业务方向？
研报重点分析了彤程新材的电子化学品业务，特别是半导体材料的增长情况。2026年上半年，公司半导体材料增长60%，其中ArF光刻胶业务表现突出，同比增幅接近300%。KrF光刻胶业务稳健增长，市占率持续提升，在售产品超过60款，BARC开始放量。此外，报告还关注了公司面板光刻胶业务，国内市占率达30%以上，份额持续提升。拓展材料方面，CMP抛光垫、高纯溶剂EBR、有机绝缘膜等项目的进展也得到分析。
当前光刻胶市场的现状如何？
当前光刻胶市场呈现国产替代加速的态势，高端光刻胶如ArF光刻胶国产化率极低，市场主要由海外企业主导。彤程新材作为国内领先厂商，在ArF光刻胶领域实现了从0到1的突破，已稳定批量供货，并随对日替代及客户端持续放量，业绩快速增长。KrF光刻胶市场方面，国内厂商市占率持续提升，彤程新材市占率攀升，在售产品超过60款。整体来看，国产光刻胶厂商在高端产品领域仍面临较大挑战，但发展潜力巨大。
研报提示了哪些风险因素？
研报提示的主要风险因素包括产品拓展不及预期。虽然彤程新材在ArF光刻胶、KrF光刻胶等领域取得进展，但光刻胶技术壁垒高，产品拓展需要持续的研发投入和市场验证。此外，市场竞争加剧也可能影响公司业绩增长。拓展材料如CMP抛光垫、高纯溶剂EBR、有机绝缘膜等项目的市场接受度和客户认证进度也存在不确定性。这些因素可能影响公司的长期发展前景。