上海新阳是国内晶圆制程和TSV级先进电镀液龙头,拥有近30年技术经验,是头部存储芯片企业蚀刻液的独家供应商。公司在光刻胶领域具备显著优势,是国内少数能实现ArF、Krf光刻胶均有出货的企业,且为国内唯一拥有EUV光刻胶发明专利授权的企业。清洗液、电镀液、蚀刻液业务均处于全球头部、国内顶尖水平,竞对主要位于美国,业务增速逾50%,整体供给紧张。
松江总部1.9万吨化学品产能已满产;合肥基地约4.4万吨清洗液、电镀液、蚀刻液产能分批投放,2025年初取得生产许可,25年起逐步兑现业绩,全部产能预计26年投产,产能增长230%。2025年3月政府批准松江新基地,先进晶圆制程材料再扩5万吨,其中3.3万吨蚀刻液为最稀缺产能,供给头部存储客户,全部产能预计26年达11.3万吨,较24年增长近5倍。
先进制程光刻胶受日本出口管制影响,国产替代紧迫。上海新阳Arf\\Krf光刻胶26年加速验证导入客户,27年有望加速上量,拥有4台光刻机持续开发测试。2030年国内半导体光刻胶市场预期200亿,公司取得10%份额对应20亿营收,10倍PS对应市值200亿。
上海新阳清洗液、电镀液、蚀刻液业务均处于全球头部、国内顶尖水平,竞对主要位于美国,业务增速逾50%,整体供给紧张。公司在光刻胶领域具备显著优势,是国内少数能实现ArF、Krf光刻胶均有出货的企业,且为国内唯一拥有EUV光刻胶发明专利授权的企业。
上海新阳的业务高度依赖头部存储芯片客户,客户集中度较高可能带来经营风险。同时,先进半导体材料技术迭代迅速,公司需持续加大研发投入以保持技术领先地位。此外,行业政策变化和国际贸易环境的不确定性也可能对公司业务产生影响。