据知情人士透露,中国已启动自主研发浸没式深紫外(DUV)光刻机的大规模生产工作。该设备是先进芯片制造环节不可或缺的核心技术,这一突破标志着中国推进半导体自主可控发展战略的关键进展。消息人士表示,上海爱盛纳电子科技集团整合国内多家头部光刻初创公司的研发团队,牵头开展本次DUV设备量产项目。该技术突破是全国半导体自主可控发展规划的重要成果,该规划是高层重点推进的工作方向。然而,现阶段这一进展不会对荷兰设备供应商阿斯麦形成直接的商业化竞争冲击。