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核心观点与关键数据
存储板块观点 :当前存储板块股价下跌主要受AI发展导致存储价格需求暴增、资本开支担忧、韩国股市去杠杆等因素影响。但AI大模型发展迅速,存储需求实质性变化不大,且韩国与美国达成的AI合作协议(950亿美元)聚焦存储产品,覆盖周期底部,保障行业下限,支撑扩产计划。
行业趋势 :存储从周期股走向成长股,韩国被纳入美国AI体系,形成合作供应体系。AI发展驱动存储需求指数级增长,DRAM供不应求,量价齐升。HBM供给无法满足需求,技术壁垒高,市场快速增长。
长鑫科技基本面 :中国最大、全球第四大DRAM原厂,产品布局丰富(DDR5、LPDDR4/5/5X等),性能达国际先进水平。合肥、北京拥有三座12英寸晶圆厂,预计2026年达产;上海规划新厂,产能达合肥两到三倍。客户优质(阿里、字节、腾讯、小米等)。国资股东背景深厚,彰显国家级战略地位。
财务与产能分析
财务表现 :2023年行业下行,收入增长有限;2024年行业回暖,收入大幅增长;2025年存储涨价周期启动,收入增速156%;2026年上半年收入达1100-1200亿元,同比增长数倍。LPDDR为主力产品,但DDR占比提升,服务器需求带动DDR增长。盈利能力显著提升,2026年上半年净利润达500-570亿元。
产能规划 :合肥、北京三座晶圆厂预计2026年达产,积极提升先进制程占比。上海规划新厂,产能达合肥两到三倍,主要面向服务器、PC、汽车电子等领域。扩建HBM生产线,加速研发HBM3/HBM3E。
市场竞争与行业格局
DRAM市场 :AI驱动存储需求爆发,DRAM供不应求,量价齐升。服务器需求占比持续提升,预计2026年达50-60%,2030年达71%。HBM市场规模预计2028年达千亿美元以上。
竞争格局 :三星、海力士、美光占据90%市场份额,长鑫份额7.7%,国产化率23%,替代空间广阔。长鑫加速提升性能,与海外差距缩小:制程落后约两代(16nm vs 10-12nm),产能差距逐步缩小(2026年达美光83%),LPDDR产品差距收窄(与海外持平),DDR产品差距缩小(性能接近),HBM落后两代(HBM3E研发中)。
技术趋势 :CFET+CBA技术组合成为主流,长鑫CFET布局领先。CFET技术通过垂直布局晶体管,节省面积,提升效率,降低成本。CBA技术将存储晶圆与逻辑控制电路晶圆分开制作并堆叠,未来有望与CFET结合。
研究结论
长鑫科技深度受益于AI驱动的存储大周期,短期业绩增长弹性大。
长鑫积极扩产,提升制程,完善产品布局,有望引领DRAM国产化,中长期成长空间广阔。