龙图光罩机构调研纪要

龙图光罩机构调研报告 调研日期:2024-12-04 2024-12-09 总经理助理邓少华,证券事务代表李建东 2024-12-04 特定对象调研,现场参观 珠海市龙图光罩科技有限公司大楼四楼会议室 广发基金 基金管理公司 - 交银施罗德 基金管理公司 - 浙商证券 证券公司 - 申万宏源 证券公司 - 一、公司基本情况 深圳市龙图光罩股份有限公司成立于2010年,是具备关键技术攻关能力,拥有自主知识产权的独立第三方半导体掩模版厂商。 公司主营业务为半导体掩模版的研发、生产和销售。公司紧跟国内特色工艺半导体发展路线,不断进行技术攻关和产品迭代,半导体掩模版工艺节点从1μm逐步提升至130nm,产品广泛应用于功率半导体、MEMS传感器、IC封装、模拟IC等特色工艺半导体领域,终端应用涵盖新能源、光伏发电、汽车电子、工业控制、无线通信、物联网、消费电子等场景。 公司于2022年8月设立珠海市龙图光罩科技有限公司,紧随国家半导体行业发展战略,围绕高端半导体芯片掩模版领域,持续加大研发 投入,逐步实现90nm、65nm以及更高节点掩模版的量产与国产化配套,深耕特色工艺,突破高端制程,立志成为国际一流的半导体光罩企 业。 二、投资者互动交流1、公司产品毛利率较高的原因? 回复:一方面,半导体掩模版呈现“高精度、多品种、小批量”特点,产品精度要求更高且客户较为分散,掩模版厂商议价能力较强,定价水平较高;另一方面,掩模版为下游晶圆制造的工具,成本占整体晶圆制造成本比例较低,但对晶圆的质量影响巨大,因此,下游客户更注重产品品质、对价格的敏感度相对较低,毛利率水平相对更高。 2、公司的光刻机和下游客户的光刻机有什么差异? 回复:公司主要用直写光刻机,又称为无掩模光刻机,而下游客户主要用有掩模光刻机。直写光刻机具有高灵活性,能快速响应不同设计需求,可直接生成高精度图形。与下游客户使用光刻机的区别在于,公司的目的是制造用于光刻的掩模版,注重精度、定位精度和灵活性;而下游客户目的是将掩模版图形转移到产品材料上用于制造产品,更关注生产效率、套刻精度和稳定性等。 3、公司募投项目的进度如何? 回复:公司自前年开始陆续订购长周期设备,今年一季度开始,相关电子束光刻机、干法刻蚀、高端检测等主要设备已陆续到货;公司目前正在进行第三代光罩产品的工艺调试和样品试制,具体进度取决于客户工艺 匹配、送样认证和开始小批量采购的周期,如有最新进展公司将及时公告。 4、公司产品认证需要的流程和周期是什么样的?回复:公司产品认证流程包括前期签订NDA协议,评估信息安全管理体系,考察掩模版厂 的制版能力及关键指标如CD精度、位置精度、套刻精度等,验证制造工艺和测量方式的匹配性,确认数据处理和JDV环节,提供标准化测试图案样品给晶圆制造厂商进行评估,并对成品进行流片测试以确保最终芯片的可靠性和功能等。整个认证周期通常为6至12个月甚至更长 ,制程等级越高,认证过程会更为严格,周期也会更长。5、公司主要有哪些竞争优势? 回复:公司主要的竞争优势包括:(1)研发与创新优势显著。公司研发团队经验丰富、技术转化能力强,目前已取得多项发明专利和软件著作权;(2)领先的技术实力。公司目前已实现130nm工艺节点半导体掩模版的量产,实现了±20nm的CD精度和套刻精度,技术实力及工艺能力在国内第三方半导体掩模版厂商中达到了领先的水平;(3)客户资源优质且稳定。公司已与众多知名客户建立长期合作,客户涵盖面广,合作稳定性高;(4)全面的客户服务能力。公司积累了大量的服务经验,在掌握并建立了市场上大部分(130nm及以上)光刻机的制版要求信息库的同时,还能精准识别、理解不同客户不同设备的特殊要求,缩短与下游客户的磨合期。