刻蚀持续高增，薄膜开启放量

核心观点

中微公司作为国内刻蚀设备领军企业，正迈向工艺全覆盖，其等离子体刻蚀设备已批量应用于国内外一线客户的集成电路加工制造生产线及先进封装生产线。公司MOCVD设备从蓝绿光LED市场出发，拓展碳化硅和氮化钾基功率器件市场。薄膜设备启动放量，刻蚀、薄膜和量检测设备合计覆盖约33%的集成电路设备市场。公司加大研发力度，在研项目涵盖六类设备，20多个新设备的开发，助力三维发展战略。

关键数据

• 2020-2023年刻蚀设备营收年均增长大于50%，2024H1刻蚀设备收入为26.98亿元，同比+56.68%。
• 2024H1 MOCVD设备收入1.52亿元，同比-49.04%，主要受蓝绿光LED市场下降影响。
• 2024H1 LPCVD新增订单1.68亿元，新产品开始启动放量。
• 2024年前三季度公司新增订单76.4亿元，同比增长约52.0%。
• 2024年前三季度产值94亿元，同比增长约287%。
• 2024H1公司研发投入9.70亿元，较上年同期的4.60亿元增加约5.10亿元，同比大幅增长110.84%。

研究结论

中国大陆未来四年将保持每年300亿美元以上的晶圆厂设备投资规模，国产化进程加速推进。刻蚀和薄膜设备年均增速高于其他种类设备。中微公司凭借其技术优势和市场布局，有望在国产替代浪潮中受益，未来发展前景广阔。

风险提示

• 下游客户扩产不及预期的风险。
• 员工股权激励带来的公司治理风险。
• 政府支持与税收优惠政策变动的风险。
• 供应链风险。
• 行业政策变化风险。
• 国际贸易摩擦加剧风险。
• 知识产权风险。
• 人才资源风险。
• 投资风险。
• 研发投入不足导致技术被赶超或替代的风险。