2023光刻机行业产业链竞争格局市场空间及相关公司分析报告

光刻机行业概述

光刻工艺

• 光刻是集成电路制造的关键环节，涉及沉积、旋转涂胶、曝光等8道工序，占晶圆制造时间的40%-50%和芯片生产成本的1/3。
• 光刻机主要指用于芯片前道工艺的投影式曝光设备，单机价值量高，2022年EUV价格约1.8亿欧元，浸没式DUV约6500万欧元。

技术发展历程

• UV光刻机（0.25微米及以上）
• 干式DUV光刻机（65nm-0.35μm）
• 浸入式DUV光刻机（7nm-45nm）
• Low-NA EUV光刻机（3nm-7nm）
• High-NA EUV光刻机（3nm以下，预计2025年出货）

市场空间及竞争格局

• 高端EUV+ArFi光刻机市场规模较大，2022年收入占比超8成。
• EUV光刻市场高速成长，2022-2027年CAGR达16.7%，预计2028年超200亿美元。
• 竞争格局：“一超两强”，ASML占据高端市场8成以上份额。

国内光刻机行业现状

• 国内光刻机依赖进口，2022年进口金额39.7亿美元，主要来自荷兰和日本。
• 高端光刻机面临断供，自主可控势在必行，ASML延长浸没式DUV出口时间。
• 各科研院所齐发力，SMEE承担整机组装，上海微电子完成90nm光刻机量产。

光刻机产业链

• 上游：零部件市场空间超150亿元，存在断供隐忧，国产替代有望提速。
• 下游：半导体行业持续增长，晶圆厂扩产，2020-2030年全球产能年增78万片/月。

光刻机相关公司

• 福晶科技：非线性晶体龙头，发力超精密光学元件。
• 奥普光电：高端光栅编码器龙头，参与祝融、羲和等重大项目。
• 茂莱光学：半导体领域收入占比约34%，为SMEE供货。
• 福光股份：军用高端光学镜头供应商，布局精密光学加工。
• 美埃科技：洁净室设备龙头，为中芯国际、上海微电子供货。
• 华卓精科：大陆首家磁悬浮双工件台供应商。
• 腾景科技：深耕高端光学元件，合分束器项目进入验证阶段。
• 苏大维格：提供光刻机用定位光栅产品。
• 炬光科技：激光元器件产业领军者，为上海微电子供货。
• 美埃科技：大陆洁净设备龙头厂商。

光刻技术发展趋势及市场展望

• 光源波长持续缩短，从436nm到13.5nm。
• 数值孔径增大，High-NA EUV是研发重点。
• RET技术推动工艺因子突破物理极限。
• 芯片性能升级，光刻强度上升，2024年光刻支出占WFE比例将超25%。