中国科研团队成功开发出新型光刻胶技术,为EUV光刻胶开发做技术储备。该技术能够在光照下生成局域化羧酸和游离的小分子强酸,这两种酸协同作用加快保护基团的转化和酸单元的扩散增殖,显著提升光刻胶的灵敏度。建议关注国产光刻胶产业链:南大光电、华懋科技、彤程新材、强力新材、晶瑞电材、上海新阳等。