半导体光刻胶行业更新点评：A胶重大突破首批产品指标对标国际大厂，彤程新材强者恒强

事件：11月06日，彤程新材发布《关于光刻胶项目进展情况》公告，其中重点指出1）公司已经完成ArF光刻胶部分型号的开发，首批ArF光刻胶的各项出货指标能对标国际光刻胶大厂产品，已具备量产能力，目前处于量产前的光刻工艺测试及产品验证阶段，能否验证通过尚存在一定的不确定性。产能可同时供应国内大部分芯片制造商，能较好地满足国内先进制程光刻胶的部分需求。2）公司生产EBR溶剂已达到G4等级规格，可满足国内40纳米以下工艺制程的芯片制造技术需求，年产2万吨的规模预计第四季度将完成高纯度G5等级EBR的验证。 金山基地建设如火如荼。据公告显示，彤程新材在上海化学工业区的工厂年产1千吨半导体光刻胶量产产线，主要包括年产300/400吨ArF及KrF光刻胶量产产线，通过采用超高纯PFA（涂层）设备、引入高精度物料流量控制系统、配以自研的高精度高效率光刻过滤系统，可以实现ppt级金属杂质及0.1um级别的颗粒管控，具备不同配方先进制程光刻胶的生产能力。 高端光刻胶快速突破，公司龙头地位稳固。根据势银（TrendBank）调研统计分析，2023年中国大陆半导体光刻胶市场规模预计达到42.02亿元，同比增长7.23%。 2023-05 过去几年中国光刻胶本土化进程仍较为缓慢，量产产品主要集中于低端光刻胶产品，高端半导体光刻胶成为了当前国内急需攻克的行业难题。而公司此次突破有望成为行业里程碑式的跨越。据公告显示1）在ArF光刻胶产品方面，公司已经完成ArF光刻胶部分型号的开发，首批ArF光刻胶的各项出货指标能对标国际光刻胶大厂产品，已具备量产能力，目前处于量产前的光刻工艺测试及产品验证阶段，能否验证通过尚存在一定的不确定性。产能可同时供应国内大部分芯片制造商，能较好地满足国内先进制程光刻胶的部分需求。2）G线、I线及KrF光刻胶产品情况目前，公司G线光刻胶已经占据国内较大的市场份额；I线光刻胶已广泛应用于国内6"、8"、12"集成电路产线，支持的工艺制程涵盖 14nm 及以上工艺。KrF光刻胶量产品种达20种以上，稳定供应国内头部芯片制造商。 政策、资金齐发力，国产光刻胶蒸蒸日上。随着中国半导体产业的发展和制造工艺技术节点的不断缩小，G/I线光刻胶增速放缓，KrF和ArF光刻胶市场需求量和增速加快。在政策上，2019年，光刻胶入选《重点新材料首批次应用示范指导目录(2019版)》，国务院、发改委等部门相继出台文件，为光刻胶技术突破、产业发展提供了有力的政策引导和保障。同时在2022年，为鼓励光刻胶产业发展、突破产业瓶颈，中国出台了多项政策支持半导体行业发展。据势银（TrendBank）截止2022年8月调研数据显示，2019-2022年光刻胶企业已披露的半导体产业光刻胶项目总投资额达到94.13亿。从年份看投资金额逐年升高。势银（Trendbank）预测2022至2023年将是光刻胶企业投资高峰年。 投资建议：建议重点关注彤程新材：公司是国内最领先的半导体光刻胶龙头生产商，也是拥有自主知识产权KrF光刻胶的本土量产供应商，I线光刻胶和KrF光刻胶是国内8-12寸集成电路产线主要的本土供应商。 风险提示：产品价格波动风险，下游需求不及预期，海外供应链安全风险。