2023年中报点评：中报符合预期，静待新品放量

事件概述：8月24日，中微公司发布2023年中报。公司2023年H1实现营收25.27亿元，同比增长28.13%；实现归母净利润10.03亿元，同比增长114.40%，实现扣非净利润5.19亿元，同比增长17.75%。 收入利润稳健增长。得益于半导体设备国产化推进，公司刻蚀设备份额持续提升，公司2023年Q2单季度实现营收13.03亿元，同比增长27.46%，环比增长6.57%；实现归母净利润7.28亿元，同比增长107.53%，环比增长164.23%； 实现扣非净利润2.91亿元，同比增长14.46%，环比增长27.74%。非经常性损益方面，公司上半年出售了部分持有的拓荆科技股票，产生税后净收益4.06亿元，大幅增厚了公司利润。2023年Q2公司实现毛利率45.90%，同环比保持稳定。 分业务来看，2023年H1公司实现刻蚀设备收入17.22亿元，同比增长32.53%，毛利率46.16%；MOCVD设备收入2.99亿元，同比增长24.11%，毛利率达37.90%。对应Q2单季度实现刻蚀设备收入9.08亿元，同比增长55%，实现MOCVD设备收入1.32亿元，同比下降34%。 持续突破先进制程工艺能力。作为国内刻蚀设备龙头，公司持续在先进工艺能力上取得突破。在逻辑器件制造中，公司CCP设备可有效应对大马士革刻蚀工艺要求，在存储器件制造中，公司超高深宽比刻蚀机已经在客户端验证出具有刻蚀≥60:1深宽比结构的能力。ICP刻蚀设备方面，公司新产品Nanova VE HP和Nanova LUX推出，拓展了ICP设备工艺覆盖能力，在先进逻辑、先进DRAM和3D NAND中的工艺覆盖率达到50-70%，新应用包括DRAM中的高深款比的多晶硅掩膜、12英寸的3D芯片的硅通孔刻蚀工艺（TSV）均已验证成功。 静待新品放量。除了刻蚀主业的强劲增长表现，公司亦布局了多款薄膜设备新品，有望在未来实现放量带来新增量。 1）LPCVD：公司用于高端存储的钨填充LPCVD设备已通过关键客户实验室测试，首台量产验证机已在客户端进行测试； 2）ALD：用于高端存储和逻辑器件的氮化钛薄膜ALD设备取得重大进展，预期在2023年下半年发往客户端进行量产验证； 3）EPI：用先进制程锗硅外延生长工艺的EPI设备研发顺利，正处于工艺调试和客户验证阶段。 投资建议：我们预计公司2023-2025年营收分别为62.93/81.20/104.82亿元，由于上半年发生较高的非经常性损益，我们上调2023-2025年归母净利润预测至19.05/19.56/25.33亿元，对应现价PE分别为43/42/33倍，我们看好公司在半导体设备国产化进程中的领先优势，维持“推荐”评级。 风险提示：产品验证不及预期；下游行业周期性波动；市场竞争加剧。 盈利预测与财务指标项目/年度 公司财务报表数据预测汇总 利润表（百万元）营业总收入 资产负债表（百万元） 现金流量表（百万元）